[发明专利]一种氙气灯真空热处理工艺

说明书

技术领域

本发明涉及照明技术领域，更具体的说是涉及一种氙气灯的制备工艺。 

背景技术

HID（High Intensity Discharge）高压气体放电灯，亦称氙气灯，它的工作原理是在（UV-CUT）抗紫外线水晶石英玻璃管内，以氙气（XENON）与碘化物等惰性气体填充，然后经过安定器（也称增压器），将普通民用市电经变频转换瞬间增压至23000V左右的脉冲振荡电能，经过高压振荡激发石英管内的氙气电子游离在两电极之间产生跳电弧光完成点亮过程，接着提供能自适应灯管管压的脉宽周期为2.38毫秒的方波电压维持氙气灯管正常发光。HID高压气体放电灯的色温非常宽，达2700~18000K，还有彩色光的。具有很好的照明和穿透力；光效非常高，输出每瓦达到80流明以上，色温在4300K~6000K的可达到输出每瓦接近100流明或以上。可迎合全世界都推行的节能理念；自身发热量底，能很好的应用在有特殊要求的场合。而且使用寿命比传统的卤素灯、白炽灯泡更长。但在传统的氙气灯制备工艺中，特别是电弧管的清洁工艺复杂，直接影响产品质量。 

发明内容

本发明的目的就是为了解决现有技术之不足而提供的一种不仅操作简单方便，而且清洁干净的氙气灯真空热处理工艺。 

本发明是采用如下技术解决方案来实现上述目的：一种氙气灯真空热处理工艺，其特征在于，它包括如下步骤： 

a、将电弧管表面用粘无水乙醇的无尘布清洁处理，晾干；

b、将晾干的电弧管放入手套箱，在手套箱内将电弧管放入石英容器中，再将石英容器放在脱羟炉的底盘中心；

c、启动脱羟炉，开启压缩空气；

d、水洗，打开冷却水阀门和水泵，开启水循环；

e、依次开启机械泵、分子泵对脱羟炉进行抽真空处理，真空度达到2×10^-3pa后开启加热程序，加热温度为1000-1200℃，时间为4-6小时；

f、冷却，取出脱羟的电弧管。

作为上述方案的进一步说明：在工艺步骤b将石英容器放入脱羟炉底盘中心过程，石英容器应当保持垂直于底盘表面。 

在所述工艺步骤e中，先开启机械泵，打开粗抽阀，对分子泵和脱羟炉抽真空，待真空度到5Pa时，开启分子泵；分子泵到达额定转速后，关闭脱羟炉粗抽阀，进行抽高真空处理，直至真空度达到2×10^-3Pa。 

在所述工艺步骤e的加热过程中，优选先将温度加热到1100℃，然后再保温5小时。 

在所述工艺步骤f中，先降温至280度，然后停止抽真空，并向炉内充气，使炉内气压与手套箱内压力相同。 

本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是： 

本发明采用先将电弧管用粘无水乙醇的无尘布清洁处理，并通过脱羟炉的脱羟，再在真空环境下进行高温热处理工艺，制备加工后的产品合格率高。

具体实施方式

本发明一种氙气灯真空热处理工艺，它包括如下步骤： 

a、将电弧管表面用粘无水乙醇的无尘布清洁处理，晾干；

b、将晾干的电弧管放入手套箱，在手套箱内将电弧管放入石英容器中，再将石英容器放在脱羟炉的底盘中心；

c、启动脱羟炉，开启压缩空气；

d、水洗，打开冷却水阀门和水泵，开启水循环；

e、依次开启机械泵、分子泵对脱羟炉进行抽真空处理，真空度达到2×10^-3Pa后开启加热程序，加热温度为1000-1200℃，时间为4-6小时；

f、冷却，取出脱羟的电弧管。

在工艺步骤b将石英容器放入脱羟炉底盘中心过程，石英容器应当保持垂直于底盘表面。 

在所述工艺步骤e中，先开启机械泵，打开粗抽阀，对分子泵和脱羟炉抽真空，待真空度到5Pa时，开启分子泵；分子泵到达额定转速后，关闭脱羟炉粗抽阀，进行抽高真空处理，直至真空度达到2×10^-3Pa；在加热过程中，优选先将温度加热到1100℃，然后再保温5小时。 

在所述工艺步骤f中，先降温至280度，然后停止抽真空，并向炉内充气，使炉内气压与手套箱内压力相同。 

以上所述的仅是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。