[发明专利]一种OLED复合透明阴极结构及其制备方法

权利要求书

1.一种OLED复合透明阴极结构，包括：透明阴极层及辅助透明阴极层，辅助透明阴极层位于透明阴极层上方；其特征在于，所述透明阴极层采用Mg-Ag合金材料制成，所述辅助透明阴极层采用Ag材料制成。

2.如权利要求1所述的一种OLED复合透明阴极结构，其特征在于，所述透明阴极层的膜厚范围为1～30nm；辅助透明阴极层的膜厚范围为1～50nm，但透明阴极层和辅助透明阴极层的总厚度不超过51nm。

3.如权利要求2所述的一种OLED复合透明阴极结构，其特征在于，所述透明阴极层的膜厚为10nm，所述辅助透明阴极层的膜厚为10nm。

4.如权利要求1-3任意一项所述的一种OLED复合透明阴极结构，其特征在于，所述Mg-Ag合金材料中，Mg的质量百分比范围为30％～0.1％，Ag的质量百分比范围为70％～99.9％。

5.一种OLED复合透明阴极结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

a.在真空条件下，利用热蒸镀或者电子束蒸镀技术，蒸镀一定厚度的Mg-Ag合金材料作为透明阴极层；

b.在真空条件下，在透明阴极层的上方，利用热蒸镀或者电子束蒸镀技术，蒸镀一定厚度的Ag材料作为辅助透明阴极层。

6.如权利要求5所述的一种OLED复合透明阴极结构的制备方法，其特征在于，步骤a中，蒸镀10nm的Mg-Ag合金材料作为透明阴极层。

7.如权利要求5所述的一种OLED复合透明阴极结构的制备方法，其特征在于，步骤b中，蒸镀10nm的Ag材料作为辅助透明阴极层。

8.如权利要求5-7任意一项所述的一种OLED复合透明阴极结构的制备方法，其特征在于，所述Mg-Ag合金材料中，Mg的质量百分比范围为30％～0.1％，Ag的质量百分比范围为70％～99.9％。