[发明专利]一种P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210077076.5 申请日: 2012-03-22
公开(公告)号: CN102602984A 公开(公告)日: 2012-07-25
发明(设计)人: 王莉;赵兴志;王祥安;卢敏;罗林宝;揭建胜;李强;朱志峰;张彦;胡继刚 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: C01G9/08 分类号: C01G9/08;C01G19/04;C01G19/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人: 何梅生
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 掺杂 zns sub se 纳米 材料 及其 制备 方法
【说明书】:

一、技术领域

发明涉及一种三元复合纳米材料的制备方法,确切地说是一种P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料及其制备方法。

二、背景技术

ZnSxSe1-x是一种宽禁带的直接带隙半导体,有着诸多的优异特性,可能在光电器件、灵敏传感器、隐身技术、催化、信息储存等广泛的领域得到广泛应用。ZnSxSe1-x材料的禁带宽度,与其成份有关。可以通过控制ZnSxSe1-x材料的元素比例,从而实现调节ZnSxSe1-x材料的禁带宽度。对ZnSxSe1-x进行P型掺杂可以显著的改善ZnSxSe1-x材料的电学性质,并可随着掺杂量的改变,调节ZnSxSe1-x材料的电导率。但是目前基于ZnSe和ZnS合成三元ZnSxSe1-x纳米材料,尤其是成分可控的P型ZnSxSe1-x纳米材料的合成,还存在很大的困难。

三、发明内容

本发明旨在提供一种P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料及其制备方法,所要解决的技术问题实现ZnSxSe1-x纳米材料成分可控,并对该纳米材料P型掺杂,从而实现半导体材料的禁带宽度可调。

本发明依据化学气相沉积(CVD)原理,将ZnSe和ZnS粉末按一定的比例混合,升温到一定的温度,在一定的压强下合成纳米材料。通过改变ZnSe与ZnS的比例以及通入掺杂源,从而实现成分可控的P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料的合成。

本发明解决技术问题采用如下技术方案:

本发明P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料,其特征在于:0<x<1;P型掺杂的掺杂源选自Ag2S、CuS、NH3、PH3中的一种或几种,若为多种时,比例任意。

当掺杂源为气体时,本发明P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料的制备方法如下:

按配比量称取硒化锌粉末和硫化锌粉末并研磨混合得混合料,将混合料置于瓷舟中并将所述瓷舟和蒸金硅片放入管式炉中,其中蒸金硅片作为沉积衬底,瓷舟位于加热源处,蒸金硅片位于加热源下游10-15cm处,向炉体内通入氩氢混合气体和气体掺杂源,炉内压强为-0.09~-0.095MPa,瓷舟处升温至1050℃并保温2小时,此时蒸金硅片处温度约为700-750℃,得到P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料;管式炉中按气体的流通方向区分上下游。

所述气体掺杂源选自NH3和/或PH3,若为两种时比例任意。

所述硒化锌粉末和硫化锌粉末的纯度≥99.99%。

所述氩氢混合气中氩气和氢气的体积比为95∶5。

所述气体掺杂源的流量为10-50sccm。

当掺杂源为固体时,本发明P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料的制备方法如下:

按配比量称取硒化锌粉末、硫化锌粉末和固体掺杂源并研磨混合得混合料,将混合料置于瓷舟内,将所述瓷舟和蒸金硅片放入三温区水平管式炉中,其中蒸金硅片作为纳米材料的沉积衬底,瓷舟位于加热源处,蒸金硅片位于加热源下游10-15cm处,向炉体内通入氩氢混合气体,炉内压强控制在-0.09~-0.095MPa,瓷舟处升温至1050℃并保温2小时,蒸金硅片处温度约为700-750℃,得到P型掺杂ZnSxSe1-x纳米材料;管式炉中按气体的流通方向区分上下游。

所述固体掺杂源选自Ag2S和/或CuS,掺杂量为硒化锌粉末和硫化锌粉末总质量的3-15%,若为两种时比例任意。

所述硒化锌粉末、硫化锌粉末和固体掺杂源的纯度≥99.99%。

所述氩氢混合气中氩气和氢气的体积比为95∶5。

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