[发明专利]一种光学膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种真空不导电镀膜技术，特别是涉及一种蜂窝网状立体效果光学膜及其制备方法。

背景技术

随着经济技术的发展，各种产品特别是电子产品上出现了各种镀膜，能更好的保护电子产品和使外表美观大方，但是尽管如此，现有技术在产品表面效果还是比较单一,只有金属质感,没有立体层次感,且没有图案供选择。虽然少数能够满足立体感和图案，但是镀膜不够精致或不能达到很好的视觉效果。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种光学膜及其制备方法，在产品外观上实现了立体效果，丰富了不导电镀膜塑胶表面的制备方法，且外观颜色图案多样化。

为了达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种光学膜，光学膜以透明待处理产品为基板，透明待处理产品的反面为网状结构，光学膜分为正面和反面两层薄膜，反面薄膜从透明待处理产品向外依次包括第一黑色PU底漆层、电镀光学薄膜层、第二黑色PU底漆层及面漆层，正面薄膜从透明待处理产品向外依次包括透明色漆层、中漆层及UV面漆层。

一种光学膜制备方法，其步骤如下：

步骤1、准备透明待处理产品，且产品的反面为网状结构；

步骤2、对产品的反面喷涂第一黑色PU底漆层，并在喷涂前对黑色PU底漆进行稀释；

步骤3、在第一黑色PU底漆层上电镀电镀光学薄膜层，电镀在真空环境中进行；

步骤4、在电镀光学薄膜层上喷涂第二黑色PU底漆层，并在喷涂前对黑色PU底漆进行稀释；

步骤5、在第二黑色PU底漆层上涂覆面漆层；

步骤6、对产品的正面进行处理，首先喷涂透明色漆层，然后在透明色漆层上依次喷涂中漆层及UV漆层。

进一步的，步骤2所述的第一黑色PU底漆层的具体制备过程如下：

制备涉及以下条件：在喷涂前对黑色PU底漆进行稀释，黑色PU底漆与稀释剂的比例为1:4，油漆浓度为7.3～8.3克/毫升，在喷涂黑色PU底漆时，烘烤温度为65～75℃，烘烤时间为8～15分钟，并在喷涂时以35～45转/分钟交替以正转/反转转动喷涂，产品的输送速度为4～5米/分，撞针压力为5.5～5.9千克，且黑色PU底漆的厚度为3～6微米；

步骤2.1、组装喷涂治具；

步骤2.2、将透明待处理产品安装到自动线上；

步骤2.3、对透明待处理产品进行自动静电除尘；

步骤2.4、进行喷涂PU底漆；

步骤2.5、对喷涂后的底漆进行烘烤后进入步骤3。

进一步的，步骤3所述的电镀光学薄膜层的具体制备过程如下：

制备涉及以下条件：电镀在真空环境中进行，真空度为5.0×10^-5～7.0×10^-5 帕，离子轰击放电电流为30～50安，离子轰击偏压为135～165伏，镀膜时间为40～50分钟，转盘速度为50～70转/分钟，镀膜厚度为20～30纳米，沉积速率为0.8～1.2纳米/秒；

步骤3.1、将放置透明待处理产品的伞架安装固定在镀膜机上；

步骤3.2、并喷涂过第一层PU底漆的透明待处理产品放置在伞架上；

步骤3.3、将镀膜材料放在钨舟内；

步骤3.4、对透明待处理产品进行光学镀膜处理；

步骤3.5、镀膜后取下透明待处理产品后进入步骤4。

进一步的，步骤4所述的第二黑色PU底漆层的具体制备过程如下：

制备涉及以下条件：在喷涂前对底漆进行稀释，底漆与稀释剂的比例为1:3.5，在喷涂底漆时，喷枪气压为2～3.5千克/平方厘米，烘烤温度为45～55℃，烘烤时间为8～15分钟，并在喷涂时以35～45转/分钟交替以正转/反转转动喷涂，产品的输送速度为4～5米/分，撞针压力为5.5～5.9千克，且底漆的厚度为3～6纳米；

步骤4.1、组装喷涂治具；

步骤4.2、将透明待处理产品安装到自动线上；

步骤4.3、对透明待处理产品进行自动静电除尘；

步骤4.4、进行喷涂PU底漆；

步骤4.5、对喷涂后的底漆进行烘烤后进入步骤5。

进一步的，步骤5所述的面漆层的具体制备过程如下：

制备涉及以下条件：面漆中需加入固化剂和稀释剂，面漆、固化剂和稀释剂的比例为100:10:200，油漆浓度为8.3～9.3秒，面漆膜厚为18～25纳米，烘烤温度为70～80℃，烘烤时间为25～35分钟，撞针压力为5.5～5.9千克，并在喷涂时以35～45转/分钟交替以正转/反转转动喷涂；