[发明专利]基板结构、其制造方法、触控面板及显示器装置

权利要求书

1.一种基板结构，其特征在于，包括：

一玻璃；

一金属掺杂光学膜，位于所述玻璃上，其中所述金属掺杂光学膜掺杂有一金属离子；以及

一抗污涂料层，位于所述金属掺杂光学膜上。

2.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属离子择自IA族金属离子。

3.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属离子在所述金属掺杂光学膜中的含量介于0.01wt％至30wt％。

4.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属掺杂光学膜为折射率为1.3～1.8的材料。

5.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述金属掺杂光学膜为折射率为1.3～1.8的材料及折射率为2.0～2.8的材料的堆叠结构。

6.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述玻璃包括钠钙玻璃、石英玻璃、硅酸碱玻璃、铅碱玻璃、陶瓷玻璃、铝酸盐玻璃、硼酸盐玻璃、或前述的组合。

7.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述抗污涂料层包括氟化硅氧烷化合物、全氟聚醚硅氧烷化合物、或前述的组合。

8.如权利要求1所述的基板结构，其特征在于，所述玻璃中更包括所述金属离子。

9.一种基板结构的制造方法，其特征在于，包括：

提供一玻璃；

在所述玻璃上形成一光学膜；

对所述光学膜进行一金属离子改质处理，使得一金属离子掺杂进入所述光学膜中，以形成一金属掺杂光学膜；以及

在所述金属掺杂光学膜上形成一抗污涂料层。

10.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子择自IA族金属离子。

11.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属掺杂光学膜中所述金属离子含量介于0.01wt％至30wt％。

12.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子改质处理的操作温度介于360℃至500℃。

13.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子改质处理包括将所述光学膜浸入一改质液中。

14.如权利要求13所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述改质液包括硝酸钾、硝酸钠、硝酸锂、或前述的组合。

15.如权利要求9所述的基板结构的制造方法，其特征在于，所述金属离子改质处理更包括使得所述金属离子进入所述玻璃中，以形成一强化玻璃。

16.一种触控面板，其特征在于，其包括如权利要求1所述的基板结构。

17.如权利要求16所述的触控面板，其特征在于，更包括一导电层，所述金属掺杂光学膜与所述导电层分别位于所述玻璃的相反两侧上，所述导电层作为一感测电极及一读取电极两者或其中之一。

18.如权利要求16所述的触控面板，其特征在于，更包括一第一基板，所述金属掺杂光学膜与所述第一基板分别位于所述玻璃的相反两侧上，其中所述第一基板上设置有作为一感测电极及一读取电极两者或其中之一的一导电层。

19.一种显示器装置，其特征在于，包括：

一如权利要求1所述的基板结构；

一第二基板，所述第二基板相对于所述基板结构设置；以及

一显示介质，位于所述基板结构及所述第二基板之间，且所述金属掺杂光学膜与所述显示介质分别位于所述玻璃的相反两侧上。

20.如权利要求19所述的显示器装置，其特征在于，所述第二基板更包括一彩色滤光片和一驱动元件其中之一。