[发明专利]轧制铜箔无效
申请号: | 201210092448.1 | 申请日: | 2012-03-31 |
公开(公告)号: | CN103146946A | 公开(公告)日: | 2013-06-12 |
发明(设计)人: | 室贺岳海;关聪至 | 申请(专利权)人: | 日立电线株式会社 |
主分类号: | C22C9/00 | 分类号: | C22C9/00;C22F1/08 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;金鲜英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 轧制 铜箔 | ||
1.一种轧制铜箔,具备主表面,且具有与所述主表面平行的多个晶面,是最终冷轧工序后、再结晶退火工序前的轧制铜箔,其特征在于,
所述多个晶面包括{022}面、{002}面、{113}面、{111}面和{133}面,
通过对所述主表面由2θ/θ法的X射线衍射测定而得到的所述各晶面的衍射峰强度分别为I{022}、I{002}、I{113}、I{111}和I{133}时,
为I{022}/(I{022}+I{002}+I{113}+I{111}+I{133})≥0.50,
为(I{002}+I{113})/(I{111}+I{133})≥1.0,
为I{022}/I{002}≤8.0,
为I{022}/I{113}≤30,
为I{022}/I{111}≥7.0,
为I{022}/I{133}≥10,
为1.0≤I{002}/I{113}≤15,
为I{111}/I{133}≤10,
为I{113}/I{111}≥0.30,
为1.0≤I{002}/I{111}≤20,
为1.0≤I{002}/I{133}≤75,且
为0.50≤I{113}/I{133}≤20。
2.根据权利要求1所述的轧制铜箔,其特征在于,通过总加工度为90%以上的所述最终冷轧工序使得厚度为20μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的轧制铜箔,其特征在于,以纯度为99.96%以上的无氧铜或者纯度为99.9%以上的韧铜作为主成分。
4.根据权利要求1~3任一项所述的轧制铜箔,其特征在于,添加有银、硼、钛和锡中的至少一种。
5.权利要求1~4任一项所述的轧制铜箔在柔性印刷配线板中的应用。
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