[发明专利]圆柱磁控溅射靶无效
申请号: | 201210097115.8 | 申请日: | 2012-04-05 |
公开(公告)号: | CN103361612A | 公开(公告)日: | 2013-10-23 |
发明(设计)人: | 黄登聪;徐华勇;刘振章 | 申请(专利权)人: | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆柱 磁控溅射 | ||
1.一种圆柱磁控溅射靶,其包括靶头及与靶头连接于一体的靶体,其特征在于:该靶体包括一靶材、一套设在靶材外的防护装置及一绝缘装置,该防护装置包括一内挡板,该绝缘装置包括至少一绝缘件,所述绝缘件固设在内挡板的内侧壁上。
2.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该绝缘件的个数为3。
3.如权利要求2所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:所述绝缘件均匀地间隔固设在内挡板的内侧壁上。
4.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该绝缘件通过螺钉连接、铆钉连接或粘结的方式固定在内挡板的内侧壁上。
5.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该绝缘装置的材质为耐高温绝缘材料。
6.如权利要求5所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该绝缘装置的材质为铁氟龙或陶瓷。
7.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该靶体还包括一靶材下盖,该靶材下盖与靶材之间设置有一绝缘座。
8.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该防护装置还包括一可旋转地套设在该内挡板外的外挡板,当内挡板旋转到与外挡板相对的位置时,外挡板处于关闭状态,靶材被密封在外挡板与内挡板配合形成的空间内;当外挡板旋转到内挡板的同一侧时,外挡板处理开启状态,该靶材可进行磁控溅射作业。
9.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该靶头与靶体通过一连接件连接在一起。
10.如权利要求1所述的圆柱磁控溅射靶,其特征在于:该靶头包括一靶座及一第一传动装置,该靶座承载所述第一传动装置,该第一传动装置驱动靶材沿其中心轴进行旋转。
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