[发明专利]圆柱磁控溅射靶

说明书

技术领域

本发明涉及一种圆柱磁控溅射靶。

背景技术

现有的真空镀膜装置内通常安装有若干对靶材。针对每一靶材分别设置有内挡板及外挡板，该内挡板与外挡板配合用以避免未使用的靶材受到热辐射及污染。

为了提高靶材的利用率，在镀膜过程中圆柱靶要绕其中心轴转动。由于内挡板在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后容易发生局部变形，且圆柱靶的长度较长（一般在一米以上）；如此，难以保证圆柱靶始终沿着该圆柱靶的中心轴转动（即圆柱靶在转动过程中会发生轻微晃动）。另外，由于内挡板局部发生变形，靶材易于与内挡板接触，易于造成靶材与内挡板发生短路，严重影响镀膜的进行。

发明内容

有鉴于此，提供一种可避免靶材与内挡板发生短路的圆柱磁控溅射靶。

一种圆柱磁控溅射靶，其包括靶头及与靶头连接于一体的靶体，该靶体包括一靶材、一套设在靶材外的防护装置及一绝缘装置，该防护装置包括一内挡板，该绝缘装置包括至少一绝缘件，所述绝缘件固设在内挡板的内侧壁上。

所述圆柱磁控溅射靶在所述内挡板与靶材之间设置绝缘装置，可有效免因内挡板在经历镀膜过程中长时间的加热而后冷却的循环后发生局部变形，进而避免内挡板与靶材发生短路。

附图说明

图1为本发明一较佳实施例的圆柱磁控溅射靶的立体图。

图2为图1所示圆柱磁控溅射靶的主视图。

主要元件符号说明

圆柱磁控溅射靶100靶头10靶座11第一传动装置13连接件50齿轮131电机133靶体30靶材31靶材下盖33防护装置35绝缘装置37内挡板351外挡板353绝缘件371绝缘座373第二传动装置70