[发明专利]形成部分沉积层的方法及形成部分沉积层的装置

权利要求书

1.一种形成部分沉积层的方法，包括：

在一蒸发板上提供一基材；

在该蒸发板与该基材之间置放一屏蔽板，使得该屏蔽板屏蔽该基材的一第一部分，并暴露该基材的一第二部分；以及

当该基材朝一预定方向移动时，进行一蒸发制程，使得在该蒸发板上的一蒸发源沉积在该基材中经暴露的该第二部分上，而不沉积在该基材中经屏蔽的该第一部分上。

2.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，其中在该蒸发板上的该蒸发源包括金属。

3.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，其中在该蒸发板上的该蒸发源包括Al、Ni、Au、Pt、Cr、Fe、Cu、Sn、Ag、Ti、Pb、Zn或其中的组合。

4.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，其中在该蒸发板上的该蒸发源的一部分沉积在远离该基材的该屏蔽板的一侧上。

5.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，还包括：

在提供该基材至该蒸发板上之前，在该基材上形成一图案化油墨层；

其中，该图案化油墨层至少具有一图案化开口，使得在该蒸发板上的该蒸发源至少沉积在该图案化开口中。

6.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，其中在提供该基材至该蒸发板上之前，该基材具有形成在其上的一对准标记，且该对准标记位于该基材中经屏蔽的该第一部分中。

7.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，其中该基材包括可挠式基材或玻璃基材。

8.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，其中该屏蔽板的位置为可调整的。

9.根据权利要求1所述的形成部分沉积层的方法，其中以一加热器加热在该蒸发板上的该蒸发源，使得该蒸发源蒸发并沉积在该基材中经暴露的该第二部分上。

10.一种形成部分沉积层的装置，包括：

一腔室，其上配置有一蒸发板；

一载体，配置在该腔室中且位于该蒸发板上，用以运送一基材并使该基材朝一预定方向移动；以及

一屏蔽板，配置在该蒸发板与该载体之间，

其中，该屏蔽板屏蔽该基材的一第一部分并暴露该基材的一第二部分。

11.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，其中在该蒸发板上的该蒸发源包括金属。

12.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，其中在该蒸发板上的该蒸发源包括Al、Ni、Au、Pt、Cr、Fe、Cu、Sn、Ag、Ti、Pb、Zn或其中的组合。

13.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，其中该载体包括用以朝预定方向转动的一滚轮，且该基材置放在该滚轮上。

14.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，其中该基材包括可挠式基材或玻璃基材。

15.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，还包括：

一支撑架，置放在该腔室中，用以支撑该屏蔽板。

16.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，其中该屏蔽板的数量为一个或多个。

17.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，还包括：

一加热器，用以加热该蒸发板。

18.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，其中该基材至该屏蔽板的距离为0.1cm～5cm。

19.根据权利要求10所述的形成部分沉积层的装置，其中该基材至该屏蔽板的距离为0.5cm～1cm。