[发明专利]半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置

权利要求书

1.一种半透射半反射彩膜基板，所述彩膜基板包括一透明基板，设置于所述透明基板之上的黑矩阵，以及设置于所述黑矩阵的缺口中用于呈现不同原色的多个彩色滤色片；其特征在于，

所述多个彩色滤色片中的第一彩色滤色片的材质为负性光敏树脂，其他彩色滤色片的材质为正性光敏树脂。

2.如权利要求1所述的半透射半反射彩膜基板，其特征在于，还包括：

设置于所述黑矩阵上的负性光敏树脂层，所述负性光敏树脂层的材质与第一彩色滤色片的材质相同；

设置于所述负性光敏树脂层上的正性光敏树脂层；

设置于所述正性光敏树脂层上的反射膜层。

3.如权利要求2所述的半透射半反射彩膜基板，其特征在于，还包括：

设置于所述反射膜层以及彩色滤色片上的绝缘层；

设置于所述绝缘层上的公共电极层。

4.一种半透射半反射彩膜基板制作方法，其特征在于，方法用于制作如权利要求1至3任一项所述的半透射半反射彩膜基板；

所述方法包括：

在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层，在所述负性光敏树脂层上涂覆一层正性光敏树脂，生成正性光敏树脂层，在所述正性光敏树脂层上生成反射膜层，所述其他彩色滤色片为材质是正性光敏树脂的彩色滤色片；

从透明基板的底部方向进行背向曝光；

对曝光后的正性光敏树脂层进行显影处理，移除其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的正性光敏树脂层以及反射膜层，露出其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的所述负性光敏树脂层；

对其他彩色滤色片以及第一彩色滤色片对应位置上方的负性光敏树脂层进行灰化处理，移除覆盖在其他彩色滤色片上的负性光敏树脂层，并生成第一彩色滤色片。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层之前，所述方法还包括：

在透明基板上涂覆一层黑色光阻；

从所述透明基板的顶部方向，对于所述黑色光阻进行正向掩膜曝光，并对曝光后的黑色光阻进行显影处理，生成具有缺口的黑矩阵。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层之前，所述方法还包括：

在生成的黑矩阵的缺口处，经过正向掩膜曝光，依次生成材质为正性光敏树脂的其他彩色滤色片，且此步骤中所述正向掩膜曝光次数与其他彩色滤色片所呈现的原色种类数目对应。

7.如权利要求4至6任一项所述的方法，其特征在于，在生成第一彩色滤色片之后，所述方法还包括：

在彩色滤色片以及剩余反射膜层上生成绝缘层；

在所述绝缘层生成公共电极层。

8.一种液晶显示装置，其特征在于，该液晶显示装置包括一半透射半反射液晶显示面板；所述半透射半反射液晶显示面板包括如权利要求1至3任一项所述的半透射半反射彩膜基板。