[发明专利]半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器技术领域，具体可涉及一种半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及设置有所述半透射半反射彩膜基板的液晶显示装置。

背景技术

现有的液晶显示器的显示方式大体可分为透射型(Transmissive)、反射型(Reflective)和半透射半反射型(Transflective)。其中，透射型液晶显示器需要在其内部设置有背光源，当背光源产生的光线透射面板时才能使面板产生亮度，因此在室外等外界环境光较强的场景下使用透射型液晶显示器件时，难以观察透射型液晶显示器正常的显示。反射型液晶显示器是在面板的下层玻璃基板上镀反射膜，通过反射外界环境光达到显示的目的，由于没有背光源，与透射型显示器件相比，反射型液晶显示器功耗较小，但当外界环境光即光源微弱时则会引起显示品质不佳等问题。因此，兼具透射型液晶显示器和反射型液晶显示器两者功效的半透射半反射型液晶显示器引起了人们的广泛关注。在外界环境光较强时，面板反射透射进来的外界环境光来达到发光的目的，当外界环境光较弱时，面板则利用背光源来达到发光的目的，所以半透射半反射型液晶显示器具有较佳的室外辨视性与反射效果，用途更为广泛。

半透射半反射彩膜基板是半透射半反射型液晶显示器中的重要器件，半透射半反射彩膜基板对于外界环境光的反射效果，直接影响了半透射半反射型液晶显示器的显示效果。

而现有半透射半反射彩膜基板结构中(已采用红、绿、蓝为原色为例)，如附图1所示，通常设置有透明基板1，黑矩阵2，三种彩色滤色膜3、4、5(分别对应于红、绿、蓝三原色)，反射膜6，绝缘层7(即OC层)，公共电极层8(即ITO层)。而上述结构的半透射半反射彩膜基板的生产工艺需要5次掩膜曝光(mask)，具体包括：首先在透明基板上涂覆黑色光阻，然后进行第一次掩膜曝光，显影后在透明基板上形成有缺口的黑矩阵(BM)；随后在BM的缺口中，经过第二次掩膜曝光，制备第一型彩色滤色膜；然后以相同的方式分别进行第三、第四次掩膜曝光，在相邻的BM缺口上制备另外两种彩色滤色片；然后在彩色滤色膜和BM上溅射反射膜金属层并涂覆感光树脂即PR胶，之后经过第五次掩膜曝光、显影、湿刻后得到位于BM上具有一定图形的反射膜6。最后进行绝缘层7和公共电极层8的制作。

附图1为现有工艺制造的半透半反型彩膜基板的剖面图。

在现有的半透射半反射彩膜基板的生产工艺中所涉及的五次曝光均从彩膜基板的正面(彩膜基板设置有彩色滤色膜的一面，即彩膜基板的顶部方向)进行，而且都需使用特定的掩模板(mask)进行曝光，该过程中需要对彩膜基板进行精确对准，一旦掩模板相对于彩膜基板的偏移超过一个微小的数值，则会使得上下两层图形不匹配，导致面板(panel)出现漏光、显示异常等较为严重的问题，从而导致现有的半透射半反射彩膜基板的生产工艺较为复杂。

发明内容

本发明为了解决现有半透射半反射彩膜基板的生产工艺较为复杂的技术问题，提供一种半透射半反射彩膜基板及其制作方法，以及液晶显示装置，从而简化了半透射半反射彩膜基板的生产工艺。

本发明提供方案如下：

本发明实施例提供了一种半透射半反射彩膜基板，所述彩膜基板包括一透明基板，设置于所述透明基板之上的黑矩阵，以及设置于所述黑矩阵的缺口中用于呈现不同原色的多个彩色滤色片；

所述多个彩色滤色片中的第一彩色滤色片的材质为负性光敏树脂，其他彩色滤色片的材质为正性光敏树脂。

优选的，所述的半透射半反射彩膜基板还包括：

设置于所述黑矩阵上的负性光敏树脂层，所述负性光敏树脂层的材质与第一彩色滤色片的材质相同；

设置于所述负性光敏树脂层上的正性光敏树脂层；

设置于所述正性光敏树脂层上的反射膜层。

优选的，所述的半透射半反射彩膜基板还包括：

设置于所述反射膜层以及彩色滤色片上的绝缘层；

设置于所述绝缘层上的公共电极层。

本发明实施例还提供了一种半透射半反射彩膜基板制作方法，该方法用于制作上述本发明实施例提供的半透射半反射彩膜基板；

所述方法包括：

在透明基板已经生成的黑矩阵、其他彩色滤色片以及黑矩阵缺口上，涂覆一层负性光敏树脂，生成负性光敏树脂层，在所述负性光敏树脂层上涂覆一层正性光敏树脂，生成正性光敏树脂层，在所述正性光敏树脂层上生成反射膜层，所述其他彩色滤色片为材质是正性光敏树脂的彩色滤色片；

从透明基板的底部方向进行背向曝光；