[发明专利]一种用于光电子器件的导电基板及其制备方法

权利要求书

1.一种用于光电子器件的导电基板，包括由下至上的透明衬底（1）和导电层（2），其特征在于，所述的导电层（2）由单层石墨烯薄膜和位于该石墨烯薄膜上的银线构成，该银线具有规则的图案。

2.根据权利要求1所述的用于光电子器件的导电基板，其特征在于，所述的规则图案为等间距的条形银线、大小相等的方格形银线或大小相等的正六边形银线。

3.根据权利要求2所述的用于光电子器件的导电基板，其特征在于，所述的等间距的条形银线间距为400μm～3mm，所述的方格形银线的边长为400μm～3mm，所述的正六边形银线的边长为400μm～3mm。

4.根据权利要求1所述的用于光电子器件的导电基板，其特征在于，所述的银线采用喷墨打印银墨水工艺形成，该银墨水中银纳米颗粒的直径小于10nm。

5.根据权利要求1所述的用于光电子器件的导电基板，其特征在于，所述银线的宽度介于60μm～200μm之间，高度介于30nm～200nm之间。

6.根据权利要求1所述的用于光电子器件的导电基板，其特征在于，所述的透明衬底（1）为玻璃、聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯。

7.一种制备权利要求1-6任一项所述的用于光电子器件的导电基板的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

①对金属箔片和透明衬底进行清洗后，用干燥氮气吹干；

②在步骤①得到的金属箔片上通过化学气相沉积方法制备石墨烯薄膜；

③将石墨烯薄膜转印到步骤①得到透明衬底上表面，并利用刻蚀法除去金属箔片；

④采用打印工艺在所述的石墨烯薄膜上形成具有规则图案的银线。

8.根据权利要求7所述的制备用于光电子器件的导电基板的方法，其特征在于，所述的化学气相沉积方法的条件包括：采用碳源为甲烷、乙烷、丙烷、丁烷、甲醇、乙醇中的一种或多种，石墨烯薄膜的化学气相沉积生长的温度为700℃～1000℃的常压或负压下。

9.根据权利要求7所述的制备用于光电子器件的导电基板的方法，其特征在于，所述的金属箔片为铜箔片、铁箔片或镍箔片。