[发明专利]一种黑膜结构及其制造方法

权利要求书

1.一种黑膜结构的制造方法，其特征在于：包含下列步骤：

步骤一：提供第一光吸收层；

步骤二：在所述第一光吸收层上形成连接层；

步骤三：在所述连接层上形成具有第一厚度的第二光吸收层，所述第一厚度与反射光的可见光平均反射率呈正比对应关系；以及，

步骤四：在所述第二光吸收层上形成具有第二厚度的调整层，以减少所述反射光中可见光各波长反射率的差异性；

步骤五：在所述调整层上形成基材；或者在所述步骤一之前先形成基材，再在所述基材上形成所述第一光吸收层。

2.如权利要求1所述黑膜结构的制造方法，其特征在于，所述第一光吸收层、连接层、第二光吸收层及调整层的形成方法是溅镀沉积法、电镀沉积法、蒸镀沉积法、化学沉积法、电浆化学气相沉积法或涂布沉积法中一种。

3.如权利要求2所述黑膜结构的制造方法，其特征在于，所述第一光吸收层与所述第二光吸收层是以低反射率金属形成，且所述低反射率金属为铬或钛。

4.如权利要求1所述黑膜结构的制造方法，其特征在于，所述基材的材质是玻璃、金属或高分子材料中的一种。

5.如权利要求2所述黑膜结构的制造方法，其特征在于，所述调整层与所述连接层是以低折射率材料形成，且该低折射率材料为硅氧化物、氮化物或铝氧化物中的一种。

6.如权利要求1所述黑膜结构的制造方法，其特征在于，所述第二光吸收层的第一厚度小于30nm；所述调整层的第二厚度介于50nm至150nm之间。

7.一种黑膜结构，其特征在于，其包含：

第一光吸收层；

透明的连接层，位于所述第一光吸收层上；

具有第一厚度的第二光吸收层，位于所述连接层上，所述第一厚度的大小与一反射光的可见光反射率呈正比对应关系；

具有第二厚度的调整层，位于所述第二光吸收层上，以减少所述反射光中可见光各波长反射率的差异性；以及，

基材，位于所述调整层上或所述第一光吸收层下。

8.如权利要求7所述的黑膜结构，其特征在于，所述第一光吸收层与所述第二光吸收层的材质为铬或钛。

9.如权利要求8所述的黑膜结构，其特征在于，所述第二光吸收层的第一厚度小于30nm；所述调整层的第二厚度介于50nm至150nm之间。

10.如权利要求7所述的黑膜结构，其特征在于，所述调整层与所述连接层的材质为硅氧化物、氮化物或铝氧化物中的一种。

11.如权利要求7所述的黑膜结构，其特征在于，所述基材的材质为玻璃、金属或高分子材料中的一种。