[发明专利]一种黑膜结构及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及器件装饰领域，特别是一种具有降低反射率的光学结构、减少可见光各波长反射率差异的黑膜结构及其制造方法。

背景技术

现今许多手机、家电或镜框等，大多喜欢以黑色凸显其时尚感，以增加其工艺价值。尤以信息产品为甚，例如计算机、通讯产品及消费者电子产品。举例而言，例如笔记型计算机外框、相机镜头边框、液晶屏幕外框、电视外框、平板计算机及手机外框皆常见此类型的设计。

目前，手机、家电或镜框等染黑色的方法多为涂黑漆、烤漆或黏上一层黑色胶膜。其中黑漆大多缺乏亮面效果，因而减少黑色特有的时尚感。烤漆或黑色胶膜较容易有亮面效果，而产生更多时尚感，但烤漆或黑色胶膜容易因碰撞或刮伤使得颜色脱落，导致折旧而减少其价值。因此需要一种不易磨损的黑膜，以维持外观。

发明内容

鉴于现有技术问题，本发明目的就是提供一种黑膜结构及其制造方法，以解决现有黑膜结构容易磨损且反射率太高的问题。

为达上述目的，本发明黑膜结构，其包含：

第一光吸收层；

以及透明的连接层，此连接层位于第一光吸收层上；

具有第一厚度的第二光吸收层，此第二光吸收层位于连接层上，且第一厚度之大小与可见光反射率呈对应关系；

具有第二厚度的调整层，此调整层位于第二光吸收层上，此调整层可使可见光各波长反射率的差异性变小；

以及基材，此基材位于调整层上或第一光吸收层下。

其中，本发明黑膜结构由第一光吸收层、连接层与第二光吸收层形成，具有降低可见光反射率的光学结构，此光学结构的可见光反射率与第二光吸收层的第一厚度呈对应关系。举例而言，此光学结构的可见光反射率与第二光吸收层的第一厚度成正比。另外，本发明黑膜结构通过改变调整层的第二厚度使可见光各波长反射率的差异性变小，以减少黑膜结构颜色产生偏移的现象。这是因为改变调整层的第二厚度可使得反射率波峰于可见光区段中，避免产生往长波长偏移或短波长偏移，进而避免黑膜结构颜色产生偏红或偏蓝的现象。

其中，第一光吸收层与第二光吸收层的材质可为铬、钛或其它具有低反射率金属，且第二光吸收层第一厚度小于30nm，且第一厚度较佳为6nm至16.5nm的区间内，调整层的第二厚度介于约50nm至约150nm之间，而第二厚度较佳为65nm。

其中，调整层与连接层的材质为硅氧化物、氮化物或铝氧化物等低折射率材料，基材为玻璃、金属或高分子材料。

本发明另一目的就是提供一种黑膜的制造方法。

这种黑膜结构的制造方法，包含下列步骤：形成第一光吸收层；在所述第一光吸收层上形成连接层；在所述连接层上形成具有第一厚度的第二光吸收层，所述第一厚度与可见光反射率呈对应关系。对应关系可为正比关系。以及，在所述第二光吸收层上形成具有第二厚度的调整层，所述调整层使可见光各波长反射率的差异性变小。其中，该基材位于调整层上或第一光吸收层下。

其中，第一光吸收层、连接层、第二光吸收层及调整层以溅镀、电镀、蒸镀、化学沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)、电浆化学气相沉积(Plasma enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)或涂布等沉积方法形成。此外，第一光吸收层与第二光吸收层以铬、钛或其它低反射率金属形成。

其中，第二光吸收层之第一厚度必须小于30nm，第一厚度较佳为6nm至16.5nm区间内，所述调整层所述第二厚度介于50nm至150nm之间，所述第二厚度较佳为65nm。

其中，调整层与连接层的材质为硅氧化物、氮化物或铝氧化物等低折射率材料，基材为玻璃、金属或高分子材料。

综上所述，本发明黑膜结构及其制造方法，具有下述优点：

(1)由调整层保护黑膜结构，减少外在磨损。

(2)通过调整层减少可见光各波长反射率的差异性，避免黑膜结构色泽产生偏红或偏蓝的现象。

(3)通过调整层减少可见光各波长反射率的差异性，增加黑膜结构的均匀度。

(4)此黑膜结构由第一光吸收层、连接层与第二光吸收层组成的光学结构降低反射率，增加黑膜结构的黑色色泽。

附图说明

图1为本发明黑膜结构示意图。

图2为本发明黑膜结构的光学示意图。

图3为本发明第二光吸收层的第一厚度对可见光平均反射率示意图。

图4为本发明黑膜结构制造方法流程图。

图5为本发明黑膜结构可见光反射率与可见光波长的对应关系图。