[发明专利]一种高透过率低反射率的减反射膜镀膜方法有效

专利信息
申请号: 201210147042.9 申请日: 2012-05-14
公开(公告)号: CN102732830A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 江河 申请(专利权)人: 南昌欧菲光科技有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/22;G02B1/11
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330000 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 透过 反射率 减反射膜 镀膜 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种高透过率低反射率的减反射膜镀膜方法,是数码相机视窗玻璃、滤光片的关键技术,该技术还可应用于防辐射玻璃、隔温玻璃、车窗玻璃、太阳能利用等多种领域。

背景技术

玻璃上镀减反射膜(以下简称AR膜),是数码相机视窗玻璃、滤光片的关键技术,该技术还可应用于防辐射玻璃、隔温玻璃、车窗玻璃、太阳能利用等多种领域,对于常用的氧化装饰膜也有很大的参考价值。将AR膜之后,再于最外层增加镀防水、防指纹膜,可以更加拓宽该技术的应用领域。

传统AR膜镀膜方法,有单层AR膜及多层AR膜两种方法。对于要求高的AR膜,一般是采用多层膜的方法制取。我们针对客户要求,开始也是设计出常用的5层膜系SiO2/TiO2/SiO2/TiO2/SiO2。

但实际生产过程中,由于受到真空室内气体均匀性的影响,以及成膜速度的影响,存在不完全氧化层的可能,这时Si:O和 Ti:O的比例就会低于1:2,会影响到实际成膜后的反射率、透过率曲线。另外,如果膜系中存在不完全氧化的膜层,会增加膜系的不稳定性,即使镀膜后反射率曲线、透过率曲线达到客户要求,当产品长期静置或者受潮后,分光曲线有可能出现漂移,严重的甚至出现变色,影响产品的使用效果。

特别是对于强化玻璃为原材料的镜片,为了保持玻璃的强化效果,镀AR膜的工艺温度不能过高,这种不完全氧化的可能性更大,出现分光曲线漂移的问题也就越常见。

发明内容

  本发明目的是为了解决AR膜分光曲线日后漂移问题,也就是防止AR膜静止一段时间,特别是在潮湿的或含盐分高的空气中等极端气候条件下,AR膜重新测量得到的分光曲线与刚镀完时的分光曲线相比,已经改变,透过率变低,反射率变高,有时分光曲线漂移也表现为在可见光区域内个别波段出现反常凸凹现象;

本发明目的是为了解决在真空镀膜设备先天不足的条件下,生产AR膜分光曲线不能达到客户要求,即透过率偏低,反射率偏高的问题而提出的一种新的工艺解决方法。

为了实现上述目的,本发明是通过以下技术方案来实现的。

  一种高透过率低反射率的减反射膜镀膜方法,在真空镀膜设备中由以下步骤完成:

(1)、常规抽真空步骤;

(2)、常规加热步骤;

(3)、Ar+O2的离子清洗步骤;

(4)、在膜上镀SiO2

(5)、在全氧气氛刻蚀,炉内气压可与镀膜阶段相同,时间一般2-5分钟;同时使用脉冲电源为离子源电源的离子活化处理,使得在脉冲电场的作用下,镜片表面的原有低价离子振荡加剧,活跃程度增大,更容易进一步失去电子,与氧形成牢固、稳定的化学键结构;

(6)、在膜上镀TiO2; 

(7)、在全氧气氛刻蚀,炉内气压可与镀膜阶段相同,时间一般2-5分钟;同时使用脉冲电源为离子源电源的离子活化处理,使得在脉冲电场的作用下,镜片表面的原有低价离子振荡加剧,活跃程度增大,更容易进一步失去电子,与氧形成牢固、稳定的化学键结构;

重复步骤(4)-(7)直到膜系结束。

无论是镀完一层低折射率氧化层,还是高折射率氧化层,都要做几分钟的全氧气氛条件下的刻蚀处理,对于没有完全氧化的氧化层,有机会再次暴漏在全氧气氛条件下,得以与氧充分接触。此时,真空室内只充氧气,炉内气压可与镀膜阶段相同或略高,时间2-5分钟,具体时间还可根据刻蚀前该层的厚度、氧化的程度,根据镀完后透过率、反射率曲线的高低,以及该AR膜镜片环境测试(一般有高温高湿、热冲击、盐雾测试等)后分光曲线漂移的程度来调整,一般时间越长,本发明的效果越明显。但是,如果时间过长,有可能使镜片表面开始粗糙,影响镜片表面的平滑度,而且也降低生产效率。

对于较厚氧化层,可以将该层分2次,3次,多次完成,每次之间也增加一次全氧气氛条件下刻蚀处理,可以使多层AR膜达到更加优异的效果。

全氧气氛条件下刻蚀处理,如果使用非脉冲电源为离子源电源,也会有增强氧化的效果,也有一定的积极作用,但是综合效果要差与使用脉冲电源。

除了在每一镀膜层之后,增加2-5分钟的特定刻蚀处理以后,本发明不改变原有的镀膜层间顺序,也不改变原有膜系,不改变原有膜系各层间的镀膜方法。

本发明中的全氧气氛条件下的刻蚀处理,与AR膜每层镀膜都是在同一个容器内完成,从镀膜开始到镀膜结束,产品无需中间转移。

本发明对于已有技术有如下创新点:

1、在每个氧化层镀完之后,加做几分钟全氧气氛条件下的刻蚀处理;

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