[发明专利]投影装置及投影方法

权利要求书

1.一种投影装置，其特征在于，具备：

发光波长不同的多种半导体发光元件；

输入部，输入图像信号；

光学像形成部，使用使所述半导体发光元件发光而得到的光源光，形成与所述输入部输入的图像信号相应的光学像；

投影部，将由所述光学像形成部形成的光学像向投影对象进行投影；

温度检测部，针对所述半导体发光元件，按种类检测发光时的温度；

测定部，针对所述半导体发光元件，按种类测定发光时的光的强度；以及

发光控制部，使用所述温度检测部的检测结果，对所述测定部的测定结果进行修正，并基于修正后的所述测定结果，控制每个所述半导体发光元件的发光强度。

2.如权利要求1所述的投影装置，其特征在于，

所述测定部使用在所述光学像形成部中未向所述投影部的方向反射的反射光，来测定所述光的强度。

3.如权利要求2所述的投影装置，其特征在于，

所述光学像形成部设置使所述半导体发光元件以单一种类发光的期间和使多个种类同时发光的期间，在由所述测定部测定时，在所述以单一种类发光的期间，分别形成整个面为黑的光学像，在使多个种类同时发光的期间，形成与所述输入部输入的图像信号相应的光学像。

4.如权利要求1所述的投影装置，其特征在于，

所述温度检测部以及所述测定部针对所述半导体发光元件，按种类在各发光期间的大致中心的定时进行发光时的温度检测、以及光强度的测定。

5.如权利要求1所述的投影装置，其特征在于，

所述发光控制部基于所述温度检测部的检测结果，执行预先准备的运算式，并根据所述运算式的运算结果，对所述测定部的测定结果进行修正之后，控制每个所述半导体发光元件的发光强度。

6.如权利要求1所述的投影装置，其特征在于，

所述发光控制部基于所述温度检测部的检测结果，参照事先准备的查询表对所述测定部的测定结果进行修正之后，控制每个所述半导体发光元件的发光强度。

7.一种投影方法，其是下述装置中的投影方法，该装置具备：发光波长不同的多种半导体发光元件；输入部，输入图像信号；光学像形成部，使用使所述半导体发光元件发光而得到的光源光，形成与所述输入部输入的图像信号相应的光学像；以及投影部，将由所述光学像形成部形成的光学像向投影对象进行投影，所述投影方法的特征在于，包括：

温度检测工序，针对所述半导体发光元件，按种类检测发光时的温度；

测定工序，针对所述半导体发光元件，按种类测定发光时的光的强度；以及

发光控制工序，使用所述温度检测工序中的检测结果，对所述测定工序中的测定结果进行修正，并基于修正后的所述测定结果，控制每个所述半导体发光元件的发光强度。