[发明专利]影像校正系统及其影像校正方法无效

专利信息
申请号: 201210151939.9 申请日: 2012-05-16
公开(公告)号: CN103379270A 公开(公告)日: 2013-10-30
发明(设计)人: 叶清松;钱中方 申请(专利权)人: 能晶科技股份有限公司
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;G06T7/00;B60R1/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 杨林;李友佳
地址: 中国台湾新竹科学*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 影像 校正 系统 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种影像校正系统,用以校正影像,其特征在于,所述系统包括:

第一校正治具,包含第一校正图,且所述第一校正图设置于所述第一校正治具的表面;

第二校正治具,包含第二校正图,且所述第二校正图设置于所述第二校正治具的表面;

行动载具,包括影像撷取模块,用以撷取需要校正的校正影像,其中,

在所述行动载具行进的通道两侧设置所述第一校正治具及所述第二校正治具;

处理模块,连接到所述影像撷取模块,根据所述第一校正图及所述第二校正图计算所述校正影像中的第一校正样板及第二校正样板;以及,

比对模块,连接到所述处理模块,将所述校正影像分别与所述第一校正样板、所述第二校正样板进行比对,并取得所述校正影像中至少一个符合所述第一校正图及所述第二校正图的位置的定位点;

其中,所述第一校正治具与所述第二校正治具分开设置,且所述第一校正治具与所述第二校正治具之间具有一间隔距离。

2.如权利要求第1项所述的影像校正系统,其特征在于,所述处理模块用以等比例缩小所述校正影像、所述第一校正样板及所述第二校正样板,且所述比对模块将所述校正影像分别与所述第一校正样板、所述第二校正样板进行比对,以比对出所述第一校正图及所述第二校正图的位置,并所述比对模块将所述校正影像分别与所述第一校正样板及所述第二校正样板进行比对,以取得至少一个所述定位点。

3.如权利要求第2项所述的影像校正系统,其特征在于,所述处理模块用以计算所述第一校正样板及所述第二校正样板在所述校正影像中的预定位置,且根据所述预定位置设置搜寻区域;

并且,所述处理模块缩小所述校正影像,且所述比对模块在所述搜寻区域中搜寻、比对所述第一校正样板及所述第二校正样板在所述校正影像中的位置,并且所述处理模块根据原比例的所述校正影像,在所述搜寻区域中分析至少一个所述定位点的位置。

4.如权利要求第2项所述的影像校正系统,其特征在于,在缩小的所述校正影像中,所述比对模块先以缩小的所述第一校正样板及所述第二校正样板与缩小的所述校正影像进行比对,以取得一粗略位置,所述比对模块再基于所述粗略位置在原比例的所述校正影像上以一局部范围将所述校正影像分别与所述第一校正样板、所述第二校正样板进行比对,以取得至少一个所述校正影像中符合所述第一校正图及所述第二校正图的位置的所述定位点。

5.一种影像校正系统,适用于具有通道、行动载具的校正平台,其特征在于,所述影像校正系统包含:

影像撷取模块,以撷取校正影像;

第一校正治具,包含第一校正图,且所述第一校正图设置于所述第一校正治具的表面;

第二校正治具,包含第二校正图,且所述第二校正图设置于所述第二校正治具的表面;

处理模块,根据所述第一校正图及所述第二校正图计算所述校正影像中的第一校正样板及第二校正样板;以及,

比对模块,连接到所述处理模块,将所述校正影像分别与所述第一校正样板、所述第二校正样板进行比对,并在所述校正影像中取得至少一个符合所述第一校正图及所述第二校正图的位置的定位点;

其中,所述第一校正治具与所述第二校正治具分开设置,且所述第一校正治具与所述第二校正治具之间具有一间隔距离。

6.如权利要求第5项所述的影像校正系统,其特征在于,所述处理模块用以等比例缩小所述校正影像、所述第一校正样板及所述第二校正样板,且所述比对模块将所述校正影像分别与所述第一校正样板、所述第二校正样板进行比对,以比对出所述第一校正图及所述第二校正图的位置,并所述比对模块将所述校正影像分别与所述第一校正样板、所述第二校正样板进行比对,取得至少一个所述定位点的位置。

7.如权利要求第6项所述的影像校正系统,其特征在于,所述处理模块计算所述第一校正样板及所述第二校正样板在所述校正影像中的预定位置,且根据所述预定位置设置搜寻区域,并且所述处理模块缩小所述校正影像,且所述比对模块在所述搜寻区域中搜寻、比对所述第一校正样板及所述第二校正样板在所述校正影像上的位置,并且所述处理模块根据原比例的所述校正影像在所述搜寻区域中分析至少一个所述定位点的位置。

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