[发明专利]化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法

说明书

技术领域

本发明涉及化合物、树脂、光致抗蚀剂组合物和用于制备光致抗蚀剂图案的方法。

背景技术

作为利用光刻工艺的半导体微制造，已经深入研究了使用ArF准分子激光器(波长：193nm)作为曝光系统的光刻工艺。用于这种光刻工艺的光致抗蚀剂组合物通常包含酸生成剂和树脂，所述树脂的关于碱性水溶液的溶解性由于酸的作用而不同。

US2007/122750公开了一种光致抗蚀剂组合物，其包含具有由下式表示的结构单元的树脂：

发明内容

本发明提供一种适合于光致抗蚀剂组合物的化合物。本发明涉及下述各项：

<1>由式(I)表示的化合物：

其中

T¹表示单键或C6-C14芳族烃基，

L¹表示C1-C17二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替，

L²和L³各自独立地表示单键或C1-C6二价饱和烃基，其中亚甲基可以被氧原子或羰基代替，

环W¹和环W²各自独立地表示C3-C36烃环，

R¹和R²各自独立地表示氢原子，羟基或C1-C6烷基，

R³和R⁴各自独立地表示羟基，或C1-C6烷基，

R⁵表示羟基或甲基，

m表示0或1，并且

t和u各自独立地表示0-2的整数。

<2>根据<1>所述的化合物，其中T¹表示单键。

<3>根据<1>或<2>所述的化合物，其中m表示0。

<4>根据<1>至<3>中任一项所述的化合物，其中L²是羰基。

<5>根据<1>至<4>中任一项所述的化合物，其中L³是单键或亚甲基。

<6>根据<1>至<5>中任一项所述的化合物，其中L³是亚甲基。

<7>一种树脂，所述树脂包含衍生自根据<1>至<6>中任一项所述的化合物的结构单元。

<8>根据<7>所述的树脂，所述树脂还包含衍生自具有酸不稳定基团但是不由式(I)表示的单体的结构单元。

<9>根据<8>所述的树脂，其中具有酸不稳定基团但是不由式(I)表示的单体由式(a1-1)或式(a1-2)表示：

其中

L^a1和L^a2各自独立地表示-O-或*-O-(CH₂)_k1-CO-O-，其中k1表示1至7的整数，并且*表示与-CO-的结合位点，

R^a4和R^a5各自独立地表示氢原子或甲基，

R^a6和R^a7各自独立地表示C1-C8烷基或C3-C10脂环族烃基，

m1表示0至14的整数，

n1表示0至10的整数，并且

n2表示0至3的整数。

<10>根据<7>到<9>中任一项所述的树脂，所述树脂还包含衍生自不具有酸不稳定基团但是具有羟基金刚烷基的单体的结构单元。

<11>根据<10>所述的树脂，其中所述不具有酸不稳定基团但是具有羟基金刚烷基的单体由式(a2-1)表示：

其中L^a3表示-O-或*-O-(CH₂)_k2-CO-O-，其中k2表示1至7的整数并且*表示与-CO-的结合位点，

R^a14表示氢原子或甲基，