[发明专利]包括耐压馈通件的测量系统

权利要求书

1.一种操作分离装置（100），所述操作分离装置（100）用于填充度测量装置且包括用于内传导体（110）的耐压馈通件（130），所述操作分离装置（100）包括：

内传导体（110）；

外传导体（120）；

操作侧（140）；

控制侧（150）；

馈通件（130）；

其中，

所述操作分离装置（100）的纵向轴线（160）从所述操作侧（140）向所述控制侧（150）延伸；

所述内传导体（110）包括第一锥形区域（170），和/或所述外传导体（120）包括第二锥形区域（180）；

所述第一锥形区域（170）和所述第二锥形区域（180）在沿着所述操作分离装置（100）的所述纵向轴线（160）的方向上渐缩；

所述馈通件（130）包括所述第一锥形区域（170），和/或所述馈通件（130）由所述第二锥形区域（180）围绕，以便以这种方式在所述内传导体（110）与所述外传导体（120）之间建立具有形状配合的连接。

2.根据权利要求1所述的操作分离装置（100），

其中，所述第一锥形区域（170）的锥角α（190）小于所述第二锥形区域（180）的锥角β（191）。

3.根据权利要求2所述的操作分离装置（100），

其中，所述锥角α（190）为1°，并且所述锥角β（191）为3°。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的操作分离装置（100），其中，

所述外传导体（120）包括圆筒形区域（195）；

所述圆筒形区域在沿着所述操作分离装置的所述纵向轴线的方向上邻接所述第二锥形区域；

所述圆筒形区域包括比所述第二锥形区域小的内直径；

所述圆筒形区域的面区域（198）与所述馈通件建立具有形状配合的连接，从而防止所述馈通件的在沿着所述操作分离装置的所述纵向轴线从所述操作侧向所述控制侧的方向上的运动。

5.根据权利要求4所述的操作分离装置（100），

进一步包括填充件（210）；

其中，

所述填充件设置在空隙（220）中；

所述空隙由所述内传导体、所述外传导体和所述馈通件限定；

所述填充件对由于所述圆筒形区域的内直径与所述第二锥形区域的内直径相比较小而产生的所述操作分离装置的特性电阻抗的变化进行补偿，使得所述操作分离装置的特性电阻抗沿着所述纵向轴线没有显著变化。

6.根据权利要求5所述的操作分离装置（100），

其中，所述填充件（210）包括比所述馈通件（130）的介电常数小的介电常数。

7.一种联接器（400），用于填充度测量装置，以便将所述填充度测量装置的操作侧（140）与所述填充度测量装置的控制侧（150）相联接，所述联接器（400）包括：

根据权利要求1至6中的任一项所述的操作分离装置（100）；

操作连接部（410）；

控制连接部（420）。

8.根据权利要求7所述的联接器（400），

其中，所述操作分离装置（100）以模块化的方式与所述操作连接部（410）和所述控制连接部（420）相连接。

9.一种填充度测量装置（500），所述填充度测量装置（500）具有根据权利要求7或权利要求8所述的联接器（400）。

10.根据权利要求9所述的填充度测量装置（500），

其中，所述填充度测量装置（500）为时域反射测量装置。

11.根据权利要求9所述的填充度测量装置（500），

其中，所述填充度测量装置为填充度雷达。