[发明专利]基板表面处理设备

权利要求书

1.一种基板表面处理设备，包括：

一腔体，其内部具有一顶端及一相对该顶端另一侧的底端，而于该顶端及该底端间形成一个容置空间；

至少一紫外光源灯，配置于该顶端的下方；

一加热装置，配置于该底端上方；及

一黑体辐射板，配置于该腔体的该容置空间内，并介于该些紫外光源灯与该加热装置之间。

2.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，该些紫外光源灯为一准分子紫外光源。

3.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，该紫外光源灯由一石英管包覆，该石英管外具有一曲面的反射罩。

4.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，该黑体辐射板为石墨或碳复合材料所形成。

5.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，该黑体辐射板是由一金属板以及一包覆该金属的黑体辐射材料所形成。

6.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，于该加热装置的周围配置一衍架结构。

7.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，包括一抽真空装置，与该腔体相接。

8.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，该腔体中包含一输送装置，且该输送装置是由多个滚轮所组成，而该输送装置是配置于该加热装置的周围。

9.根据权利要求1所述的基板表面处理设备，其中，与一胶状悬浮液涂布系统或真空镀膜设备连接，以形成一机台。

10.一种基板表面处理设备，包括：

一腔体，其内部具有一顶端及一相对该顶端另一侧的底端，而于该顶端及该底端间形成一个容置空间；

至少一紫外光源灯，配置于该顶端的下方；

一加热装置，配置于该底端上方；及

复数个黑体辐射组件，配置于该腔体的该容置空间内，并介于该些紫外光源灯与该加热装置之间；其中

该些黑体辐射组件是于复数个滚轮的外表面上包覆一黑体辐射材料所形成。

11.根据权利要求10所述的基板表面处理设备，其中，该黑体辐射板为石墨或碳复合材料所形成。

12.一种真空薄膜成膜系统，由一基板表面处理设备连接一真空薄膜成膜机台所组成，其中，该基板表面处理设备包括：

一腔体，其内部具有一顶端及一相对该顶端另一侧的底端，而于该顶端及该底端间形成一个容置空间；

至少一紫外光源灯，配置于该顶端的下方；

一加热装置，配置于该底端上方；及

一黑体辐射板，配置于该腔体的该容置空间内，并介于该些紫外光源灯与该加热装置之间。

13.一种基板表面涂布系统，由一基板表面处理设备连接一基板表面涂布设备所组成，其中，该基板表面处理设备包括：

一腔体，其内部具有一顶端及一相对该顶端另一侧的底端，而于该顶端及该底端间形成一个容置空间；

至少一紫外光源灯，配置于该顶端的下方；

一加热装置，配置于该底端上方；及

一黑体辐射板，配置于该腔体的该容置空间内，并介于该些紫外光源灯与该加热装置之间。