[发明专利]基板表面处理设备

说明书

技术领域

本发明是有关于一种基板表面处理设备，特别是有关于一种使用紫外光源灯及黑体辐射板所形成的基板表面处理设备，用以对基板的表面进行清洗及改质处理；使得经过基板表面处理设备清洗及改质后的基板具有良好的接着状态，故可用于真空镀膜至基板前的基板表面清洗及改质的工艺，或是胶状悬浮液涂布之前工艺。

背景技术

在目前的半导体制造技术领域中，对于制造过程中大都必须使用到基板，但此基板无论在其制造过程或是运输过程中，都会使得基板的表面存在一些污染物质，而这些存在基板表面的污染物若不处理时，是会造成制造良率降低问题；例如：当基板表面洁净度不够时，会造成光学组件的劣化或是电路的缺陷，使得制造良率降低。特别是现今半导体组件尺寸愈来愈缩小时，基板表面污染的清洗与表面特性的控制，已成越来越重要的课题为了能让基板表面具有良好的表面洁净度，可以选择在基板上进行工艺之前，先对基板的表面进行清洗或改质处理，使得经过表面清洗或改质处理后的基板表面上的污染物能够被清除；其中，对于基板表面洁净度的判断，是可以经由对基板上的水滴的接触角(contact angle)量测的结果来判定表面洁净度；例如，判定基材表面洁净度如何时，可将纯水滴在基板或是基材表面，分别对未经表面处理的基板与处理后的基板表面上的水滴进行接触角的量测；当量测出接触角(contact angle)越小时，则代表基板或基材表面洁净度越佳，可以提高后续工艺的良率。

目前，对于基板表面进行改质方法有许多种，例如：等离子体改质(plasma treatment)、电晕放电(corona discharge)、介电质放电(dielectric barrier discharge；DBD)等改质方法。

以等离子体改质为例来说明，由于等离子体为固、液、气三态外的第四态，其主要是由气体在高电磁场下离子化后，以形成负电子，正、负离子和自由基等活性气体团，并以等离子体对基板表面进行清喜及改质；然而，使用等离子体改质需要具有较高能量，且在进行清洗及改质的过程中，可能会损伤基板表面。

此外，以电晕放电(corona discharge)来进行基板表面清喜及改质时，其主要是使用高电场将一种流体离子化；例如：将空气以高电场离子化后，会在电极附近产生了具有离子状态的分子，而这些离子态的分子会再去与其他稳态分子作用，用以对基板表面进行清洗及改质；然而，此电晕放电方式处理的缺点是其处理效果薄弱且容易造成电极的破坏。

接着，以介电质放电(DBD)来进行基板表面清喜及改质时，介电质放电(dielectric barrier discharge；DBD)，是用两电极间加入至少一层介电质材料例如石英，通以高电流电压的电位，则可在两电极间将流过的气体活化分解的，用以对基板表面进行清喜及改质；然而，此方式的缺点为电流集中在一些小点，容易损坏电极上做表面处理的材料。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板表面处理设备，以改进公知技术中存在的缺陷。

为实现上述目的，本发明提供的基板表面处理设备，包括：

一腔体，其内部具有一顶端及一相对该顶端另一侧的底端，而于该顶端及该底端间形成一个容置空间；

至少一紫外光源灯，配置于该顶端的下方；

一加热装置，配置于该底端上方；及

一黑体辐射板，配置于该腔体的该容置空间内，并介于该些紫外光源灯与该加热装置之间。

所述的基板表面处理设备，其中，该些紫外光源灯为一准分子紫外光源。

所述的基板表面处理设备，其中，该紫外光源灯由一石英管包覆，该石英管外具有一曲面的反射罩。

所述的基板表面处理设备，其中，该黑体辐射板为石墨或碳复合材料所形成。

所述的基板表面处理设备，其中，该黑体辐射板是由一金属板以及一包覆该金属的黑体辐射材料所形成。

所述的基板表面处理设备，其中，于该加热装置的周围配置一衍架结构。

所述的基板表面处理设备，其中，包括一抽真空装置，与该腔体相接。

所述的基板表面处理设备，其中，该腔体中包含一输送装置，且该输送装置是由多个滚轮所组成，而该输送装置是配置于该加热装置的周围。

所述的基板表面处理设备，其中，与一胶状悬浮液涂布系统或真空镀膜设备连接，以形成一机台。

本发明还提供一种基板表面处理设备，包括：