[发明专利]一种光学活性四氢吡啶衍生物及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210178891.0 申请日: 2012-05-30
公开(公告)号: CN102690227A 公开(公告)日: 2012-09-26
发明(设计)人: 林旭锋;李雪健;屈海军;赵彦彦 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: C07D211/78 分类号: C07D211/78
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 韩介梅
地址: 310027 浙*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光学 活性 吡啶 衍生物 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光学活性四氢吡啶衍生物和使用手性磷酸催化制备的方法,属于含氮杂环的手性合成领域。

背景技术

四氢吡啶衍生物是一种具有重要生物活性的杂环,可以作为医药产品的重要中间体,也存在于一些高活性天然产物中,参见(Curr.Med.Chem.2005,12,551–571;Bioorg.Med.Chem.17(2009)625–633;Bioorg.Med.Chem.2003,11,5229;J.Med.Chem.1988,31,1621;Bioorg.Med.Chem.Lett.2003,13,1359;J.Med.Chem.2005,48,3704;Nat.Prod.Rep.1992,9,491)。特别是文献Bioorg.Med.Chem.17(2009)625–633报道了一些四氢吡啶衍生物具有优越的抗疟疾作用。因此已经有很多催化合成四氢吡啶衍生物的报道,比如Synthesis 2008,3530–3532;Tetrahedron Lett.2010,51,4419–4424;Tetrahedron Lett.2007,48,5209–5212;ACS Comb.Sci.2011,13,181–185;J.Org.Chem.2008,73,8398–8402等待;但是这些报道都是关于消旋体合成的,尚未有不对称合成的例子;而光学活性不同的相同结构通式,在药理上通常会显示很大的不同,甚至相反的作用。

因此进一步开发光学活性四氢吡啶衍生物的高效的高对映选择性的制备方法,提供光学活性四氢吡啶衍生物对新药筛选等有重要意义;显然通过催化不对称方法合成光学活性四氢吡啶衍生物是最佳的途径。

发明内容

本发明的目的是提供一种光学活性四氢吡啶衍生物的结构,并提供一种反应温和、操作简便、对映选择性高的手性磷酸催化制备光学活性四氢吡啶衍生物的方法。

本发明的光学活性四氢吡啶衍生物,其特征在于它是具有结构式(1)的左旋体或右旋体光学活性化合物:

式中:R1选自芳基或取代的芳基、杂芳基或取代的杂芳基、苯乙烯基或取代的苯乙烯基,所述取代基是卤素、硝基、C1~C4的烃基或C1~C4的烃氧基中的1~3个;R2选自C3~C8的烃基、苄基、芳基或取代的芳基、杂芳基或取代的杂芳基,所述取代基是卤素、硝基、C1~C4的烃基或C1~C4的烃氧基中的1~3个;R3选自C1~C4的烃基、苄基、烯丙基;R4选自H、C1~C4的烃基、苄基。

本发明的光学活性四氢吡啶衍生物的制备方法,其特征是以醛、胺和β-酮酸酯为原料,在分子筛存在下,以手性磷酸为催化剂,在有机溶剂中,于-50~50℃反应24~120小时,经纯化分离获得光学活性四氢吡啶衍生物,所述的醛、胺和β-酮酸酯的摩尔比为2∶2∶1;所述的手性磷酸催化剂和β-酮酸酯的摩尔比为1~20∶100;所述的分子筛和β-酮酸酯的质量比为1~20∶1;反应式为:

式中:R1选自芳基或取代的芳基、杂芳基或取代的芳基、苯乙烯基或取代的苯乙烯基,所述取代基是卤素、硝基、C1~C4的烃基或C1~C4的烃氧基中的1~3个;R2选自C3~C8的烃基、苄基、芳基或取代的芳基、杂芳基或取代的杂芳基,所述取代基是卤素、硝基、C1~C4的烃基或C1~C4的烃氧基中的1~3个;R3选自C1~C4的烃基、苄基、烯丙基;R4选自H、C1~C4的烃基、苄基。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210178891.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top