[发明专利]带缺陷的测试构件用于分析工程构件的方法、系统和装置有效

专利信息
申请号: 201210180339.5 申请日: 2012-06-04
公开(公告)号: CN102809497B 公开(公告)日: 2016-11-30
发明(设计)人: C.W.罗斯;J.B.小迪顿 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: G01N1/28 分类号: G01N1/28;G01N33/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;杨楷
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 缺陷 测试 构件 用于 分析 工程 方法 系统 装置
【权利要求书】:

1.一种用于分析工程构件(60,100)的方法,包括:

分析所述工程构件(60,100),以获得产出轮廓(40);

制造具有已知缺陷的测试构件(70,300),所述已知缺陷是被故意地包括在所述测试构件(70,300)中的瑕疵;

分析所述测试构件(70,300),以获得所述缺陷的测试轮廓(40);以及

将所述产出轮廓(40)与所述测试轮廓(40)比较,以确定所述工程构件(60,100)是否具有与所述已知缺陷对应的缺陷。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

在所述制造之前:

分析产出工程构件(60,100),以获得产出构件缺陷;以及

以所述已知缺陷与所述产出构件缺陷匹配的方式设计所述测试构件(70,300)。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

将结构测试应用于所述测试构件(70,300),以实现所述测试构件(70,300)的失效;以及

基于所述结构测试估计所述缺陷对所述工程构件(60,100)的剩余寿命的影响。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述制造包括附加制造过程的使用。

5.一种用于分析工程构件(60,100)的系统,包括:

测试构件(70,300),其被制造成具有已知缺陷,所述已知缺陷是被故意地包括在所述测试构件(70,300)中的瑕疵;

分析器,其分析所述测试构件(70,300)以获得所述缺陷的测试轮廓(40),并分析所述工程构件(60,100)以获得产出轮廓(40);以及

比较器,其将所述产出轮廓(40)与所述测试轮廓(40)比较,以确定所述工程构件(60,100)是否具有与所述已知缺陷对应的缺陷。

6.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,还包括:

结构测试器,其将结构测试应用于所述测试构件(70,300),以实现所述测试构件(70,300)的失效;以及

估计器,其基于所述结构测试估计所述缺陷对所述工程构件(60,100)的剩余寿命的影响。

7.根据权利要求5所述的系统,其特征在于,使用附加的制造过程制造所述测试构件(70,300)。

8.一种用于分析工程构件(60,100)的存储在计算机可读存储介质上的程序产品,所述程序产品在被计算机执行时执行方法,包括:

分析所述工程构件(60,100),以获得产出轮廓(40);

指导具有已知缺陷的测试构件(70,300)的制造,所述已知缺陷是被故意地包括在所述测试构件(70,300)中的瑕疵;

分析所述测试构件(70,300),以获得所述缺陷的测试轮廓(40);以及

将所述产出轮廓(40)与所述测试轮廓(40)比较,以确定所述工程构件(60,100)是否具有与所述已知缺陷对应的缺陷。

9.根据权利要求8所述的程序产品,其特征在于,所述方法还包括:

将结构测试应用于所述测试构件(70,300),以实现所述测试构件(70,300)的失效;以及

基于所述结构测试估计所述缺陷对所述工程构件(60,100)的剩余寿命的影响。

10.根据权利要求8所述的程序产品,其特征在于,制造包括附加的制造过程的使用。

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