[发明专利]对基体进行旋转涂布的装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于对基体进行旋转涂布的装置、应用和方法。 

背景技术

由现有技术已知多种不同的用于对基体进行旋转涂布的装置。特别是在半导体技术中已知用于向基体上施加光感漆(Fotolack)的旋转涂布机或旋涂机。这种旋转涂布机或旋涂机也称为“涂层机(Coater)”。晶片或玻璃片或类似部件用作基体。对于这种情况特别可以参考EP 1 743 220A1。 

在现有技术中记载的用于对基体进行旋转涂布的装置描述了一种旋涂机，所述旋涂机具有可旋转的基体盘，用于水平地放置基体，还具有覆盖单元，用于在通过基体保持件的旋转来散布液态介质的过程中覆盖基体，其中，基体保持件与覆盖单元能够密封地拼装。基体保持件具有周围设置的通孔，经由所述通孔由覆盖单元和基体保持件构成的涂布内腔保持与外部连通，与周围设置的通孔间隔开地设有沿径向对置的壁段，其中在旋转涂布期间通孔相对于壁段发生相对运动。 

然而，在由现有技术记载的装置中，不存在相互分离的转盘和基体盘。相反，在现有技术中，被称为基体保持件的区域一体地成形。但目前一般较为常见的是，现有技术的基体保持件分成两部分，即一个基体盘和一个转盘，以便能够响应制造过程中的不同要求。以这种方式例如可以更换基体盘，这又使得相同的装置适于制造不同尺寸的待制造的基体。然而，通过将现有技术的基体保持件分成基体盘和转盘，会出现不希望的吸入和涡流现象，这是因为在转盘下方存在的带有相应地不希望的颗粒的空气由于在转盘和基体盘之间的涂布内腔的内部中的负压而被吸入涂布内腔中。这种所不希望的空气从转盘的下部区域例如通过旋转轴进入转盘和基体盘之间的中间空间中，所述旋转轴驱动转盘， 也驱动基体盘。除了旋转轴，应使得基体盘正确地在转盘上定位的所谓定位元件也会导致不希望的颗粒通过转盘和基体盘之间的中间空间被吸入涂布内腔中。当转盘和覆盖单元之间密封地封闭时，所述通孔会导致，在转盘和基体盘之间打开通路，因为基体盘在很小的范围中从转盘上松脱。由于这种松脱又会有位于转盘下方的不希望的颗粒通过旋转轴的通路或者附着在定位元件区域中的颗粒被吸入涂布内腔中。所述颗粒又沉降到液态介质上并损害所形成的产品的质量。此外，由于不希望的吸入现象会出现气流不可预测的转向，所述气流此时不再被导入通孔，而是不协调地分布在涂布内腔中。此外，在现有技术中记载的具有分开的基体盘和转盘的布置结构中会出现不利的状况，即由于不希望地引入的空气，还可能通过在涂布内腔中出现的不希望的气垫使得现有技术中已知的盖子略微抬起，这会导致附加的涡流。 

发明内容

本发明的目的在于，提供一种用于对基体进行旋转涂布的装置，该装置克服了现有技术中已知的缺点。在这种情况下特别应避免，在涂布内腔出现不希望的吸入现象。这有对基体制造的质量和成本支出起积极影响。对于具有相应较大生产率的批量制造过程特别重要的是，液态介质、例如光感漆尽可能均匀地施加到基体上。这应与基体的尺寸或直径无关地进行。由现有技术还已知旋转涂布机或旋涂机，其中使用覆盖单元。该覆盖单元下降到待涂布的基体上。由此在基体或所施加的液态介质上应产生溶剂垫，这在旋转过程中使得漆层更好地分布。没有覆盖部，会发生液体介质的不希望的“干燥”，这当然对所制造的产品的质量产生不利影响。 

发明目的的解决方案 

本发明所要求保护的装置、应用和方法用于实现所述目的。