[发明专利]薄膜晶体管基板以及显示器在审
申请号: | 201210185196.7 | 申请日: | 2012-06-05 |
公开(公告)号: | CN103456738A | 公开(公告)日: | 2013-12-18 |
发明(设计)人: | 李冠锋 | 申请(专利权)人: | 群康科技(深圳)有限公司;奇美电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;G02F1/1362;G02F1/1368 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈小雯 |
地址: | 518109 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 以及 显示器 | ||
1.一种薄膜晶体管基板,包括:
基板;
多个薄膜晶体管,设置于该基板上,其中,每一薄膜晶体管包含:
栅极,配置于该基板上;
第一扩散阻障层,配置于该基板上并覆盖该栅极;
栅绝缘层,配置于该第一扩散阻障层上;
有源层,配置于该栅绝缘层上,并位于该栅极上方;
源极,配置于该基板上并电连接该有源层;
漏极,配置于该基板上并电连接该有源层;以及
保护层,覆盖该源极与该漏极。
2.如权利要求1所述的薄膜晶体管基板,其中该第一扩散阻障层的材质包括氮化物、金属氧化物、或前述的组合。
3.如权利要求2所述的薄膜晶体管基板,其中该第一扩散阻障层的氮化物材质包括氮化硅。
4.如权利要求2所述的薄膜晶体管基板,其中该第一扩散阻障层的金属氧化物材质由氧化铝、氧化钛、氧化铪、硅铝氧化物或前述的组合。
5.如权利要求1所述的薄膜晶体管基板,其中该第一扩散阻障层的厚度约为10埃~5000埃。
6.如权利要求5所述的薄膜晶体管基板,其中该第一扩散阻障层的较佳的厚度约为500埃~1000埃。
7.如权利要求1所述的薄膜晶体管基板,其中该栅绝缘层包括一覆盖该第一扩散阻障层的第一膜层与一位于该第一膜层上的第二膜层,该第二膜层的氢含量低于该第一膜层的氢含量,且该第二膜层的氢含量约小于或等于20原子百分比。
8.如权利要求1所述的薄膜晶体管基板,还包括:
绝缘层,配置于该有源层上并覆盖该栅绝缘层,其中该源极与该漏极配置于该绝缘层上并贯穿该绝缘层而连接至该有源层。
9.如权利要求8所述的薄膜晶体管基板,还包括:
第二扩散阻障层,配置于该源极与该漏极上并覆盖该绝缘层。
10.如权利要求9所述的薄膜晶体管基板,其中该保护层还覆盖该第二扩散阻障层,且该保护层的材质不同于该第二扩散阻障层的材质。
11.如权利要求9所述的薄膜晶体管基板,其中该第二扩散阻障层的厚度约为1000埃~2000埃。
12.如权利要求9所述的薄膜晶体管基板,其中该第一扩散阻障层的材质相同于该第二扩散阻障层的材质。
13.如权利要求9所述的薄膜晶体管基板,其中该第二扩散阻障层的材质包括氮化硅、氧化铝、氧化钛、氧化铪、或硅铝氧化物。
14.如权利要求1所述的薄膜晶体管基板,其中,该栅极具有上表面以及环侧壁,而该栅极的上表面还设有一第三扩散阻障层,且该第三扩散阻障层位于该栅极与该第一扩散阻障层之间。
15.如权利要求14所述的薄膜晶体管基板,其中该第三扩散阻障层的材质包括钼、钛、铝、铬、或前述材料的合金。
16.如权利要求14所述的薄膜晶体管基板,其中该第三扩散阻障层的边缘对齐该栅极的环侧壁。
17.如权利要求14所述的薄膜晶体管基板,其中该第三扩散阻障层(盖层)的边缘小于或等于该栅极的边缘。
18.一种显示器,包括:
如权利要求1所述的薄膜晶体管基板;
基板,与该薄膜晶体管基板相对设置;以及
显示介质,形成于该薄膜晶体管基板与该基板之间。
19.如权利要求18所述的显示器,其中该显示介质为一液晶层。
20.如权利要求18所述的显示器,其中该显示介质为一有机发光层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的