[发明专利]光刻机及应用于光刻机中的工件台系统

权利要求书

1.一种光刻机，包括：用于承载掩模版的掩模台、投影物镜、照明系统、测量框架、基础框架以及工件台系统，所述照明系统将掩模版上的图像经过投影物镜投射在硅片或基版上，所述掩模台安装于所述测量框架上，所述掩模台的反作用力通过掩模台反力支架外引至基础框架上，所述测量框架通过测量框架减振器安装于基础框架上，其特征在于，所述工件台系统包括用于承载硅片或者基版的工件台、工件台减振器、工件台反力外引结构以及工件台安装底座，所述工件台通过工件台减振器安装于工件台安装底座上，所述工件台安装底座可拆卸的安装于所述基础框架上，所述工件台采用工件台反力外引结构将工件台的反作用力外引至所述基础框架。

2.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述工件台反力外引结构包括工件台反力支架、工件台反力滑块、反力外引阻尼单元、反力外引弹簧单元以及反力外引支架；所述工件台反力支架和所述反力外引支架均安装于所述工件台安装底座上，所述工件台反力滑块设置在所述工件台反力支架上，所述工件台反力滑块的两端分别通过反力外引阻尼单元和反力外引弹簧单元与反力外引支架连接。

3.根据权利要求2所述的光刻机，其特征在于，所述工件台系统还包括工件台的运动系统、工件台承版台以及滑块底座，所述工件台的运动系统安装于所述滑块底座上驱动所述工件台承版台运动，所述工件台减振器设置于所述工件台安装底座和所述滑块底座之间。

4.根据权利要求3所述的光刻机，其特征在于，所述工件台的运动系统包括工件台Y向滑块、工件台X向滑块、以及三组工件台垂向执行机构，工件台Y向滑块实现工件台承版台的Y向运动，工件台X向滑块实现工件台承版台的X向运动，工件台垂向执行机构实现工件台承版台在Z、Rx、Ry方向的运动。

5.根据权利要求4所述的光刻机，其特征在于：工件台Y向滑块的定子安装于所述工件台反力滑块上。

6.一种应用于光刻机中的工件台系统，其特征在于，包括用于承载硅片或者基版的工件台、工件台减振器、工件台反力外引结构以及工件台安装底座，所述工件台通过工件台减振器安装于工件台安装底座上，所述工件台安装底座可拆卸的安装于光刻机的基础框架上，且工件台采用工件台反力外引结构将工件台的反作用力外引至所述基础框架。

7.根据权利要求6所述的工件台系统，其特征在于：所述工件台反力外引结构包括工件台反力支架、工件台反力滑块、反力外引阻尼单元、反力外引弹簧单元以及反力外引支架；所述工件台反力支架和所述反力外引支架均安装于所述工件台安装底座上，所述工件台反力滑块设置在所述工件台反力支架上，所述工件台反力滑块的两端分别通过反力外引阻尼单元和反力外引弹簧单元与反力外引支架连接。

8.根据权利要求7所述的工件台系统，其特征在于，所述工件台系统包括工件台的运动系统、工件台承版台以及滑块底座，所述工件台的运动系统安装于所述滑块底座上驱动所述工件台承版台运动，所述工件台减振器设置于所述工件台安装底座和所述滑块底座之间。

9.根据权利要求8所述的工件台系统，其特征在于，所述工件台的运动系统包括两组工件台Y向滑块、工件台X向滑块、以及三组工件台垂向执行机构，工件台Y向滑块实现工件台承版台的Y向运动，工件台X向滑块实现工件台承版台的X向运动，工件台垂向执行机构实现工件台承版台在Z、Rx、Ry方向的运动。

10.根据权利要求9所述的光刻机，其特征在于：工件台Y向滑块的定子安装于所述工件台反力滑块上。