[发明专利]光刻机及应用于光刻机中的工件台系统

说明书

技术领域

本发明涉及半导体制造领域，尤其涉及一种光刻机及应用于光刻机中的工件台系统。

背景技术

随着光刻技术的发展，对产率以及套刻精度提出了越来越高的要求，为了提高产率就需要提高工件台、掩模台的运动加速度，这就意味着工件台、掩模台对框架的反作用力提高，由于反作用力的提高会激发出测量框架自身的固有频率，必然导致测量框架的振动幅值变大，从而影响整机的套刻精度。为了解决运动系统的反作用力对测量框架的影响，各个光刻机制造商提出了不同的解决方案。

如在专利文献WO2010101267A1于2010年09月10日公开了一种反力处理结构，将工件台、掩模台均布置在测量框架上，测量框架通过主动减振器隔离基础框架的振动，运动系统的反作用力外引至基础框架。上述结构消除了工件台、掩模台反作用力对测量框架的冲击，但是这种结构复杂，同时由于运动质量仍位于测量框架上，减振器需要处理由于运动系统的运动引起的重心变化。

美国专利US6493062B2于2002年12月10日公开了一种光刻机结构，将工件台置于基础框架，掩模台置于测量框架上，测量框架通过主动减振器隔离基础框架的振动，将掩模台的反作用力通过反力外引机构外引至基础框架。上述结构可以消除运动系统反作用力对测量框架的影响，但是这种结构模块化不好，同时工件台的结构不能在减小对基础框架的冲击以及隔离地基振动上取得很好的平衡。

因此，如何提供一种在有效隔离基础框架和工件台之间的相互影响的前提下，可以简化结构并可以便于维护工件台的光刻机及应用于光刻机中的工件台系统是本领域技术人员亟待解决的一个技术问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种光刻机及应用于光刻机中的工件台系统，以解决现有技术中虽能有效隔离基础框架和工件台的相互影响，但是结构复杂且工件台维修、安装不方便的技术问题。

一种光刻机，包括：用于承载掩模版的掩模台、投影物镜、照明系统、测量框架、基础框架、工件台系统，所述照明系统将掩模版上的图像经过投影物镜投射在硅片或基版上，所述掩模台安装于所述测量框架上，所述掩模台的反作用力通过掩模台反力支架外引至基础框架上，所述测量框架通过测量框架减振器安装于基础框架上，所述工件台系统包括用于承载硅片或者基版的工件台、工件台减振器、工件台反力外引结构以及工件台安装底座，所述工件台通过工件台减振器安装于工件台安装底座上，所述工件台安装底座可拆卸的安装于所述基础框架上，所述工件台采用工件台反力外引结构将工件台的反作用力外引至所述基础框架。

进一步，所述工件台反力外引结构包括工件台反力支架、工件台反力滑块、反力外引阻尼单元、反力外引弹簧单元以及反力外引支架；所述工件台反力支架和所述反力外引支架均安装于所述工件台安装底座上，所述工件台反力滑块设置在所述工件台反力支架上，所述工件台反力滑块的两端分别通过反力外引阻尼单元和反力外引弹簧单元与反力外引支架连接。

进一步，所述工件台系统还包括工件台的运动系统、工件台承版台以及滑块底座，所述工件台的运动系统安装于所述滑块底座上驱动所述工件台承版台运动，所述工件台减振器设置于所述工件台安装底座和所述滑块底座之间。

进一步，所述工件台的运动系统包括工件台Y向滑块、工件台X向滑块、以及三组工件台垂向执行机构，工件台Y向滑块实现工件台承版台的Y向运动，工件台X向滑块实现工件台承版台的X向运动，工件台垂向执行机构实现工件台承版台在Z、Rx、Ry方向的运动。

进一步，工件台Y向滑块的定子安装于所述工件台反力滑块上。

本发明还公开了一种应用于光刻机中的工件台系统，包括用于承载硅片或者基版的工件台、工件台减振器、工件台反力外引结构以及工件台安装底座，所述工件台通过工件台减振器安装于工件台安装底座上，所述工件台安装底座可拆卸的安装于光刻机的基础框架上，且工件台采用工件台反力外引结构将工件台的反作用力外引至所述基础框架。

进一步，所述工件台反力外引结构包括工件台反力支架、工件台反力滑块、反力外引阻尼单元、反力外引弹簧单元以及反力外引支架；所述工件台反力支架和所述反力外引支架均安装于所述工件台安装底座上，所述工件台反力滑块设置在所述工件台反力支架上，所述工件台反力滑块的两端分别通过反力外引阻尼单元和反力外引弹簧单元与反力外引支架连接。