[发明专利]湿式蚀刻设备及其供应装置无效
申请号: | 201210194565.9 | 申请日: | 2012-06-13 |
公开(公告)号: | CN103484860A | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 曾子章;陈宗源 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司 |
主分类号: | C23F1/08 | 分类号: | C23F1/08 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻 设备 及其 供应 装置 | ||
1.一种湿式蚀刻设备,包括:
机台,其具有用以储存流体的容置空间;
至少一供应件,其设于该机台上,且该供应件具有贯穿的供应道,该供应道连通该机台的容置空间,以令该容置空间中的流体经该供应道移至该机台外;以及
调整件,其具有相邻的信道与回收道,该信道用以容置该供应件,以使流经该供应件的流体由该信道输出,且该回收道连通该机台的容置空间。
2.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该机台具有定位件,供该供应件设置于该定位件上,以借该定位件带动该供应件与调整件至所需的位置。
3.根据权利要求2所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该机台具有可程序逻辑控制系统,以操控该定位件的运作及该流体的运动,并操控该回收道的运作。
4.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该供应件为喷嘴。
5.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该供应件为多个时,由至少二该供应件构成一组供应单元。
6.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该供应件为多个时,该些供应件呈数组排设。
7.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该回收道的端口与该信道的端口具有高度差。
8.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该回收道围绕于该信道的外侧。
9.一种湿式蚀刻设备用的供应装置,其包括:
供应件,其具有贯穿的供应道,以输送流体;以及
调整件,其具有相邻的信道与回收道,该供应件位于该信道中,以使流经该供应件的流体由该信道输出。
10.根据权利要求9所述的供应装置,其特征在于,该回收道的端口与该信道的端口具有高度差。
11.根据权利要求9所述的供应装置,其特征在于,该回收道围绕于该信道的外侧。
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