[发明专利]湿式蚀刻设备及其供应装置无效

专利信息
申请号: 201210194565.9 申请日: 2012-06-13
公开(公告)号: CN103484860A 公开(公告)日: 2014-01-01
发明(设计)人: 曾子章;陈宗源 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司
主分类号: C23F1/08 分类号: C23F1/08
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 设备 及其 供应 装置
【权利要求书】:

1.一种湿式蚀刻设备,包括:

机台,其具有用以储存流体的容置空间;

至少一供应件,其设于该机台上,且该供应件具有贯穿的供应道,该供应道连通该机台的容置空间,以令该容置空间中的流体经该供应道移至该机台外;以及

调整件,其具有相邻的信道与回收道,该信道用以容置该供应件,以使流经该供应件的流体由该信道输出,且该回收道连通该机台的容置空间。

2.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该机台具有定位件,供该供应件设置于该定位件上,以借该定位件带动该供应件与调整件至所需的位置。

3.根据权利要求2所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该机台具有可程序逻辑控制系统,以操控该定位件的运作及该流体的运动,并操控该回收道的运作。

4.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该供应件为喷嘴。

5.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该供应件为多个时,由至少二该供应件构成一组供应单元。

6.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该供应件为多个时,该些供应件呈数组排设。

7.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该回收道的端口与该信道的端口具有高度差。

8.根据权利要求1所述的湿式蚀刻设备,其特征在于,该回收道围绕于该信道的外侧。

9.一种湿式蚀刻设备用的供应装置,其包括:

供应件,其具有贯穿的供应道,以输送流体;以及

调整件,其具有相邻的信道与回收道,该供应件位于该信道中,以使流经该供应件的流体由该信道输出。

10.根据权利要求9所述的供应装置,其特征在于,该回收道的端口与该信道的端口具有高度差。

11.根据权利要求9所述的供应装置,其特征在于,该回收道围绕于该信道的外侧。

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