[发明专利]一种真空镀膜机

说明书

技术领域

本发明涉及光电元器件生产设备领域，特别是涉及一种真空镀膜机。

背景技术

光学薄膜，由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。

目前，光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主，该方法为将薄膜材料由固态转化为气态或离子态，气态或离子态的材料，由蒸发源穿越空间，抵达基板表面，最后沉积逐渐形成薄膜。通常，为了制作高纯度的薄膜，镀膜的制程需于高真空环境下完成。在镀膜之前的加热过程中在未达到蒸发物的蒸发温度时就会有蒸发源将杂质蒸发掉，另有一些蒸发物在加热蒸发过程中会释放出气体。这些杂质和不稳定的气体扩散会造成薄膜厚度不均、组分不净、性能不稳、应力较大、附着不牢固等缺点，影响镀膜质量。

现有的真空镀膜机无法隔绝这些杂质和气体，无法制作出高精度的光学薄膜。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种真空镀膜机，能够制造出高精度的光学薄膜。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种真空镀膜机，包括真空镀膜室、温度控制系统、膜厚控制系统和蒸发控制系统，所述真空镀膜室包括隔断装置，所述隔断装置包括隔板和驱动装置，所述驱动装置和隔板连接，控制隔板的开启和关闭。

在本发明一个较佳实施例中，所述驱动装置和蒸发控制系统连接，所述蒸发控制系统启动时，发开启信号给驱动装置，所述驱动装置运行关闭隔板，所述蒸发控制系统关闭时，发关闭信号给驱动装置，所述驱动装置运行开启隔板。

在本发明一个较佳实施例中，所述驱动装置还和温度控制系统连接，所述温度控制系统启动时，发开启信号给驱动装置，所述驱动装置运行关闭隔板，所述温度控制系统关闭时，发关闭信号给驱动装置，所述驱动装置运行开启隔板。

在本发明一个较佳实施例中，所述隔板表面镀有惰性材料。

在本发明一个较佳实施例中，所述真空镀膜室内表面镀有惰性材料

在本发明一个较佳实施例中，所述惰性材料为氧化铝或氧化锆。

在本发明一个较佳实施例中，所述隔断装置还包括导轨，所述隔板安装在导轨上。

本发明的有益效果是：本发明真空镀膜机，可以对蒸发源和产品之间进行隔断，隔绝杂质和气体对镀膜生产的影响，从而能能够制造出高精度的光学薄膜。

附图说明

图1是本发明真空镀膜机一较佳实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅图1，本发明实施例包括：

一种真空镀膜机，包括真空镀膜室1、温度控制系统2、膜厚控制系统3和蒸发控制系统4，所述真空镀膜室1包括隔断装置（未标注），所述隔断装置包括隔板11、导轨12和驱动装置13，所述隔板11安装在所述导轨12上，所述驱动装置13和隔板11连接，控制隔板11的开启和关闭。

所述驱动装置13和蒸发控制系统4连接，所述蒸发控制系统4启动时，发开启信号给驱动装置13，所述驱动装置13运行关闭所述隔板11，将蒸发源和产品进行隔断，所述蒸发控制系统4关闭时，发关闭信号给驱动装置13，所述驱动装置13运行开启所述隔板11。

所述驱动装置13还和温度控制系统2连接，所述温度控制系统2启动时，发开启信号给驱动装置13，所述驱动装置13运行关闭所述隔板11，将蒸发源和产品进行隔断，所述温度控制系统2关闭时，发关闭信号给驱动装置13，所述驱动装置13运行开启所述隔板11。

优选地，在所述隔板11 表面和真空镀膜室内镀上氧化铝或氧化锆等惰性材质的可防止杂质、待蒸镀或者气化的蒸发材料与所述隔板11 自身的材料发生化学反应。 

本发明真空镀膜机，可以对蒸发源和产品之间进行隔断，隔绝杂质和气体对镀膜生产的影响，保证了真空镀膜室内的洁净状态，从而保障了待蒸镀膜层不会发生污染及变质，使基片镀膜层厚度更均匀，成分更纯净，性能更稳定，与基片表面的连接更牢固可靠，提高了基片镀膜层的品质及延长了基片的使用寿命，从而能能够制造出高精度的光学薄膜。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。