[发明专利]发光二极管阵列及发光二极管芯片无效
申请号: | 201210202715.6 | 申请日: | 2012-06-15 |
公开(公告)号: | CN103515407A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 杨适存;陈嘉南;刘恒 | 申请(专利权)人: | 华夏光股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/15 | 分类号: | H01L27/15 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁挥;鲍俊萍 |
地址: | 英属大开曼*** | 国省代码: | 开曼群岛;KY |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光二极管 阵列 芯片 | ||
1.一种发光二极管阵列,其特征在于,包括:
一基板;
多个发光二极管单元,位于该基板上且彼此电性隔离,每一发光二极管单元包括:
一n侧氮化物半导体层;
一p侧氮化物半导体层;与
一主动层,位于该n侧氮化物半导体层与该p侧氮化物半导体层之间;
至少一导光结构,位于相邻二该发光二极管单元之间的一间隔;及
多条互联机,电性连接该些发光二极管单元。
2.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该导光结构与该些发光二极管单元彼此电性隔离。
3.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该导光结构与该发光二极管单元的结构相同。
4.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该导光结构系于相邻二该发光二极管单元之间的该间隔形成时,同时形成于该间隔中。
5.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该发光二极管单元更包括:
一未掺杂层,该未掺杂层位于该n侧氮化物半导体层与该基板之间。
6.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该导光结构的垂直剖面系为上窄下宽的型态。
7.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该导光结构的形状系选自于由柱状、墙状及其组合所构成的群组。
8.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该导光结构包括:
一第一导光墙,邻近该发光二极管的一第一边长;以及
一第二导光墙,邻近该发光二极管的一第二边长;
其中,该第一边长与该第二边长系为该发光二极管的相邻两边,该第一导光墙与该第二导光墙相互连接或不连接。
9.根据权利要求1所述的发光二极管阵列,其特征在于,该互联机的至少一部分位于该间隔上,且该互联机与该导光结构错开设置。
10.一种发光二极管芯片,其特征在于,包括:
一基板;
一发光二极管单元,位于该基板上且包括:
一n侧氮化物半导体层;
一p侧氮化物半导体层;
一主动层,位于该n侧氮化物半导体层与该p侧氮化物半导体层之间;及
至少一导光墙,邻近该发光二极管单元的一边缘。
11.根据权利要求10所述的发光二极管芯片,其特征在于,该导光墙与该发光二极管单元彼此电性隔离或电性连接。
12.根据权利要求10所述的发光二极管芯片,其特征在于,该导光墙与该发光二极管单元的结构相同。
13.根据权利要求10所述的发光二极管芯片,其特征在于,该导光墙与该发光二极管单元之间具有一间隔。
14.根据权利要求13所述的发光二极管芯片,其特征在于,该间隔、该导光墙与该发光二极管单元同时形成。
15.根据权利要求10所述的发光二极管芯片,其特征在于,该发光二极管单元更包括:
一未掺杂层,该未掺杂层位于该n侧氮化物半导体层与该基板之间。
16.根据权利要求10所述的发光二极管芯片,其特征在于,该导光墙的垂直剖面为上窄下宽的型态。
17.根据权利要求10所述的发光二极管芯片,其特征在于,该导光墙为封闭环形结构或非封闭环形结构,且环绕该发光二极管单元。
18.根据权利要求10所述的发光二极管芯片,其特征在于,该至少一个导光墙包括多个导光墙,该些导光墙分离地配置。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的