[发明专利]一种R-高喜树碱中间体的制备方法有效

专利信息
申请号: 201210204113.4 申请日: 2012-06-19
公开(公告)号: CN102718770A 公开(公告)日: 2012-10-10
发明(设计)人: 张万年;缪震元;祝令建;盛春泉;姚建忠 申请(专利权)人: 中国人民解放军第二军医大学
主分类号: C07D491/147 分类号: C07D491/147;C07D491/22
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 丁振英
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 喜树碱 中间体 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种R-高喜树碱中间体R-CDE环(I)的制备方法,其化学结构如下:

式中R1为氢或含C1~C5的直链烷基,

具体步骤为:

1)将(R)-3-乙酰基-4-苯基-2-噁唑烷酮类化合物(IV)溶解于溶剂配制成溶液,在强碱作用下,使(R)-3-乙酰基-4-苯基-2-噁唑烷酮类化合物(IV)酰基烯醇化为锂盐,经过不对称Aldol缩合反应获得高光学纯的化合物(V):

其中R1为氢或C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为氢、C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基,

所说的强碱选自正丁基锂、异丁基锂、二异丙基氨基锂、六甲基二硅基胺基锂,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚或苯中的一种或几种,反应温度为-10℃~-100℃,反应时间控制在0.5~5小时;

2)在碱性条件下将化合物(V)经过“一锅法”脱除硅醚保护和酰胺水解获得酸衍生物,最后在酸催化下环合成光学纯的化合物(I):

脱硅醚保护所用试剂为碱和20%-30%的过氧化氢的混合物,酰胺水解和脱硅醚保护所用碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、碳酸钾或碳酸铯,环合生成化合物I所用酸选自盐酸、硫酸、磷酸、氢溴酸、硝酸、醋酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、水杨酸或草酸中的一种或几种,反应温度为0℃~60℃,反应时间控制在6-24小时。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于步骤1)中R1为C1~C5的直链烷基;R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。

3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于步骤1)中所用碱为二异丙基氨基锂或六甲基二硅基胺基锂。

4.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于步骤1)中所用溶剂为四氢呋喃或乙醚。

5.如权利要求3所述的方法,其特征在于步骤1)中所用溶剂为四氢呋喃或乙醚。

6.如权利要求1、2或5所述的方法,其特征在于步骤1)中反应温度为-78℃~-100℃。

7.如权利要求4所述的方法,其特征在于步骤1)中反应温度为-78℃~-100℃。

8.如权利要求1、2、5或7所述的方法,其特征在于步骤2)中R1为C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。

9.如权利要求3所述的方法,其特征在于步骤2)中R1为C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。

10.如权利要求4所述的方法,其特征在于步骤2)中R1为C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国人民解放军第二军医大学,未经中国人民解放军第二军医大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210204113.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top