[发明专利]一种R-高喜树碱中间体的制备方法有效
申请号: | 201210204113.4 | 申请日: | 2012-06-19 |
公开(公告)号: | CN102718770A | 公开(公告)日: | 2012-10-10 |
发明(设计)人: | 张万年;缪震元;祝令建;盛春泉;姚建忠 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军第二军医大学 |
主分类号: | C07D491/147 | 分类号: | C07D491/147;C07D491/22 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 丁振英 |
地址: | 200433 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 喜树碱 中间体 制备 方法 | ||
1.一种R-高喜树碱中间体R-CDE环(I)的制备方法,其化学结构如下:
式中R1为氢或含C1~C5的直链烷基,
具体步骤为:
1)将(R)-3-乙酰基-4-苯基-2-噁唑烷酮类化合物(IV)溶解于溶剂配制成溶液,在强碱作用下,使(R)-3-乙酰基-4-苯基-2-噁唑烷酮类化合物(IV)酰基烯醇化为锂盐,经过不对称Aldol缩合反应获得高光学纯的化合物(V):
其中R1为氢或C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为氢、C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基,
所说的强碱选自正丁基锂、异丁基锂、二异丙基氨基锂、六甲基二硅基胺基锂,所说的溶剂选自二氯甲烷、四氢呋喃、甲苯、乙醚或苯中的一种或几种,反应温度为-10℃~-100℃,反应时间控制在0.5~5小时;
2)在碱性条件下将化合物(V)经过“一锅法”脱除硅醚保护和酰胺水解获得酸衍生物,最后在酸催化下环合成光学纯的化合物(I):
脱硅醚保护所用试剂为碱和20%-30%的过氧化氢的混合物,酰胺水解和脱硅醚保护所用碱选自氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、碳酸钾或碳酸铯,环合生成化合物I所用酸选自盐酸、硫酸、磷酸、氢溴酸、硝酸、醋酸、三氟乙酸、对甲苯磺酸、水杨酸或草酸中的一种或几种,反应温度为0℃~60℃,反应时间控制在6-24小时。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于步骤1)中R1为C1~C5的直链烷基;R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。
3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于步骤1)中所用碱为二异丙基氨基锂或六甲基二硅基胺基锂。
4.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于步骤1)中所用溶剂为四氢呋喃或乙醚。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于步骤1)中所用溶剂为四氢呋喃或乙醚。
6.如权利要求1、2或5所述的方法,其特征在于步骤1)中反应温度为-78℃~-100℃。
7.如权利要求4所述的方法,其特征在于步骤1)中反应温度为-78℃~-100℃。
8.如权利要求1、2、5或7所述的方法,其特征在于步骤2)中R1为C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。
9.如权利要求3所述的方法,其特征在于步骤2)中R1为C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。
10.如权利要求4所述的方法,其特征在于步骤2)中R1为C1~C5的直链烷基,R2和R3分别为C1~C5的直链烷基或C6~C8的芳烷基。
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