[发明专利]一种消影且增透的导电镀膜层无效
| 申请号： | 201210209623.0 | 申请日： | 2012-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN102779570A | 公开（公告）日： | 2012-11-14 |
| 发明（设计）人： | 王立新 | 申请（专利权）人： | 普发玻璃（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;G06F3/041 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 范晴 |
| 地址： | 518122 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 导电 镀膜 | ||
【权利要求书】：
1. 一种消影且增透的导电镀膜层，包括普通玻璃或透明塑料构成的基片层和ITO或ZAO层构成的电极层，其特征在于，在基片层和电极层之间复合增加若干个SiO2层和TiO2或Nb2O5层。
2. 根据权利要求1所述的消影且增透的导电镀膜层，其特征在于，所述消影增透导电镀膜层从基片层表面依次往上为：第一SiO2层；第一TiO2或Nb2O5层；第二SiO2层；第二TiO2或Nb2O5层；第三SiO2层；电极层。
3. 根据权利要求2所述的消影且增透的导电镀膜层，其特征在于，所述第一SiO2层的厚度不限；第一TiO2或Nb2O5层的厚度为2-50nm；第二SiO2层的厚度为10-80nm；第二TiO2或Nb2O5层的厚度为2-50nm；第三SiO2层的厚度为20-80nm；电极层的厚度为10-150nm。
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