[发明专利]一种消影且增透的导电镀膜层

说明书

技术领域

本发明涉及一种玻璃或透明塑料表面上的镀膜层，尤其是一种消影且增透的导电镀膜层。

背景技术

是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。

在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90%以上。ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制，通常SnO2:In2O3=1:9。

在ZnO体系中掺杂Al得到ZnO：Al透明导电薄膜，即AZO薄膜，惨杂后薄膜导电性能大幅度提高，电阻率可降低到10-4 ohm·cm，而且透明导电薄膜AZO薄膜在氢等离子体中稳定性要优于ITO，同时具有可同ITO相比拟的光电特性，而且AZO薄膜的制备方便，元素资源比In元素丰富，且无毒，逐渐成为ITO薄膜最佳替代者，AZO薄膜目前已经在平板显示器和薄膜太阳能电池中得到了部分应用。

电容式触摸屏要用到透明导电膜电极（如ITO或AZO），该电极应用于显示区域，由于导电膜的折射率和基板（玻璃或透明塑料）的折射率的差别，（如ITO和AZO的折射率约为2.0，玻璃约1.5，塑料如PET约1.5），使得显示区内的电极和电极缝隙之间反射和透过率有较大的差别，如附图图3为常规做法的透明导电膜电极（ITO或AZO），图4为常规做法制成的电极示意图（ITO厚度为40NM），电极对可见光的反射率为电极镀层（ITO或AZO）的反射率，而电极缝隙的反射率为玻璃或透明塑料的反射率，电极镀层（ITO或AZO）的平均反射率为16.5%，玻璃或透明塑料的平均反射率为4.2%，反射率的巨大差异会使电极和缝隙清晰可见，影响显示的效果和外观，特别是在手机、平板电脑、笔记本及普通电脑上，电极和缝隙可见会严重影响视觉效果。

目前在小屏幕触摸屏上采用减小缝隙的方法来降低电极和缝隙的可见度，但受光刻设备等的限制，如果在20英寸以上大屏幕触摸屏采用微小缝隙的方法，设备投资及制造成本会非常高，产品不良率也会升高。如方块电阻为60欧的ITO或AZO导电镀膜层的平均反射率约16.5%，严重降低了可见光的通过率，这样在光线比较明亮的环境中特别是背后有窗户、灯光的环境中，屏幕会应反射光太强而无法看清。

发明内容

本发明目的是：提供一种玻璃或透明塑料表面的消影增透导电镀膜层，使从玻璃或透明塑料表面看不见导电层电极和缝隙，并能将导电层对可见光的平均反射率从16.5%降低至10%，而缝隙即基材加底层膜的平均反射率为10%，（电极的刻蚀只是导电层，刻蚀掉的导电层部分的底层膜保留）能使可见光通过导电层的量增加39%，提高显示屏的清晰对比度，在保证导电层功能的同时，达到消影和增透的功能。

本发明的技术方案是：

一种消影且增透的导电镀膜层，包括普通玻璃或透明塑料构成的基片层和ITO或ZAO层构成的电极层，其特征在于，在基片层和电极层之间复合增加若干个SiO2层和TiO2或Nb2O5层。。

优选的，所述消影增透导电镀膜层从基片层表面依次往上为：第一SiO2层；第一TiO2或Nb2O5层；第二SiO2层；第二TiO2或Nb2O5层；第三SiO2层；电极层。

优选的，所述第一SiO2层的厚度不限；第一TiO2或Nb2O5层的厚度为2-50nm；第二SiO2层的厚度为10-80nm；第二TiO2或Nb2O5层的厚度为2-50nm；第三SiO2层的厚度为20-80nm；电极层的厚度为10-150nm。

所述消影增透导电镀膜层利用真空溅射的方法镀于玻璃或透明塑料表面，每层镀层使用不同材料且厚度不同，使可见光经过不同镀层的反射光产生光干涉，针对导电镀膜层起到降低可见光反射率、提高其透过率的效果。在可见光的范围内（400~700nm），使导电镀膜层的反射率降低，提高了触摸屏的整体透过率。

进一步的，设定并精确控制各膜层的厚度，在导电镀膜层前面的膜层（图1之2、3、4、5、6膜层）的作用下，使得其与有导电镀膜层的反射率一致，起到消除电极及电极缝隙影子的功能。

本发明的一些用途：

1、触摸屏电脑、笔记本电脑。

、平板电脑。

、触摸屏手机。