[发明专利]一种氮杂双环[3.3.0]辛烷衍生物的合成方法

权利要求书

1.一种氮杂双环[3.3.0]辛烷衍生物的合成方法，其特征在于，以式(V)化合物1,2,3,6-四氢邻苯二甲酰亚胺为原料，依次经过上保护基、还原反应、脱保护基反应、氧化反应、环化脱羧反应，得到所述如式(I)所示的氮杂双环[3.3.0]辛烷衍生物；

其反应路线为：

其中，

当A是O时，R是C₁～C₈的烷基取代基、或芳基；

当A是N时，R是氢、C₁～C₈烷基、或芳基；

PG是Ph₃C、叔丁基、MOM、BOM、TMS、萘甲基、其中，X是H、F、Cl、Br、I、NO₂、CH₃、CH₃CH₂、OCH₃、或OCH₃CH₂。

2.如权利要求1所述的合成反应，其特征在于，所述上保护基反应是所述式(V)化合物经过在碱性条件下的与卤代保护基反应，生成式(IV)化合物。

3.如权利要求2所述的合成反应，其特征在于，所述上保护基反应中所用的碱是K₂CO₃，KHCO₃，KOH，KOMe，KOEt，KO^tBu，KOPr，KOⁱPr，Na₂CO₃，NaHCO₃，NaOH，NaOMe，NaOEt，NaOPr，NaOⁱPr，NaH，KH，CaH₂，吡啶，三乙胺或二异丙基乙基胺。

4.如权利要求1所述的合成反应，其特征在于，所述还原反应是在非质子溶剂中以还原剂将式(IV)化合物的酰亚胺上得羰基还原为亚甲基，生成式(III)化合物。

5.如权利要求4所述的合成反应，其特征在于，所述非质子溶剂是四氢呋喃，甲基四氢呋喃，乙醚，甲基叔丁基醚，苯，甲苯或乙苯；所述还原剂为LiAlH4。

6.如权利要求1所述的合成反应，其特征在于，当PG是Ph₃C、叔丁基、MOM、BOM、TMS、或萘甲基时，所述脱保护基反应是将式(III)化合物在酸性或者碱性条件下先脱去保护基变成二级胺，再在碱性条件下与卤代甲酸酯或卤代甲酰胺反应，生成式(II)的化合物。

7.如权利要求6所述的合成反应，其特征在于，所述脱保护基反应所用的碱为NaOH，KOH，Na₂CO₃，K₂CO₃，NaHCO₃或KHCO₃。

8.如权利要求6所述的合成反应，其特征在于，所述脱保护基反应所用的酸为HCl，HBr，H₂SO₄，H₃PO₄，AcOH，CF₃COOH或TsOH。

9.如权利要求1所述的合成反应，其特征在于，当PG是所述脱保护基反应是将式(III)化合物先在碱的催化下与光气或三光气反应，再与相应的醇或胺反应，得到结构通式为(II)的化合物；其中，X是其中，X是H、F、Cl、Br、I、NO₂、CH₃、CH₃CH₂、OCH₃、或OCH₃CH₂。

10.如权利要求9所述的合成反应，其特征在于，所述催化剂碱是三乙胺，三甲胺，二异丙基乙基胺，二乙胺，二丙胺，二丁胺，吡啶或DMAP之任意一种。

11.如权利要求9所述的合成反应，其特征在于，所述氧化反应是将式(II)化合物经过氧化剂氧化成二羧酸；其中，所述氧化剂是H₂O₂，O₃，KMnO₄或K₂Cr₂O₇。

12.如权利要求1所述的合成反应，其特征在于，所述环化脱羧反应是在酸性溶剂中环化脱羧生成式(I)化合物；其中，所述酸性溶剂为乙酸、乙酸酐或丙酸。