[发明专利]沉积装置有效
| 申请号： | 201210214960.9 | 申请日： | 2012-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN102719806A | 公开（公告）日： | 2012-10-10 |
| 发明（设计）人： | 李占斌 | 申请（专利权）人： | 上海宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/52;C23C16/34;H01L21/318 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 沉积 装置 | ||
1.一种沉积装置，包括气体反应腔和尾气排出管，所述尾气排出管与所述气体反应腔连接，其特征在于，还包括：排堵进气管，所述排堵进气管位于所述尾气排出管的侧壁，且与所述尾气排出管贯通。
2.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述排堵进气管靠近所述尾气排出管与气体反应腔连接端。
3.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述排堵进气管与所述尾气排出管一体成型。
4.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，所述排堵进气管与所述尾气排出管的侧壁的连接方式为套接或焊接或螺纹连接。
5.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，还包括：气体流量监测器或气体流量监控器，所述气体流量监测器或气体流量监控器的一端与所述排堵进气管的开口连接。
6.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，还包括：气体流量监测器或气体流量监控器，所述气体流量监测器或气体流量监控器的一端与尾气排出管连接，另一端与排堵进气管连接。
7.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，还包括：开关部件，所述开关部件的一端与尾气排出管连接，另一端与排堵进气管连接。
8.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，还包括：开关部件，所述开关部件的一端与排堵进气管的开口连接。
9.如权利要求7或8所述的沉积装置，其特征在于，所述开关部件为阀门或插塞。
10.如权利要求1所述的沉积装置，其特征在于，还包括：第一进气管和第二进气管，所述第一进气管和第二进气管分别与所述气体反应腔贯通连接。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
