[发明专利]新型的分形图案接地屏蔽结构有效

专利信息
申请号: 201210226478.7 申请日: 2012-06-29
公开(公告)号: CN102738124A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 孙玲玲;刘军;赵倩 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H01L23/552 分类号: H01L23/552
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 杜军
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 新型 图案 接地 屏蔽 结构
【权利要求书】:

1.新型的分形图案接地屏蔽结构,应用于射频集成电路,其特征在于:该分形图案接地屏蔽结构位于线圈绕成的电感或变压器的中心部分,采用底层的薄金属层,利用分形理论在基本图形单元的基础上,构造一阶、二阶、三阶、甚至更高阶的图案接地屏蔽层。

2.如权利要求1所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:所述的基本图形单元共有两种:分别是H形和十字形,这两种形状都是由相互垂直的和平行的金属条合并为一体构成。

3.如权利要求2所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:当基本图形单元为H形时,首先在金属层M1选定一个中心点,构造H图形最中间的长为L、宽为W的横向金属条,起始点为-L/2、-W/2,终点为L/2、W/2,确保L、W变化时,图形始终位于中心;其次构造垂直于中间金属条的两侧的竖直的长L的两个金属条;然后构造垂直于两条竖直金属条的长为L/2的四个金属条;令所有金属条宽度W相等,最后把所有的金属条合并为一体,由此一阶图案屏蔽结构完成,接地部分由两侧的竖直金属条的中间部分引出连接到地,利用金属层M2制造一个相同的H形的一阶悬浮屏蔽结构,但和金属层M1相互绝缘;H形的基本单元的金属条的长度L取值范围为10μm~70μm,宽度W取值范围为0.12μm~2μm。

4.如权利要求3所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:构造二阶图案接地屏蔽层是在一阶图案接地屏蔽层的基础上,叠加四个主长度为L/2、次长度为L/4、宽度W不变的H图形(13a);构造三阶图案接地屏蔽层是在二阶图案接地屏蔽层的基础上,叠加十六个主长度为L/4、次长度为L/8、宽度W不变的H图形(13b)。

5.如权利要求4所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:叠加的H图形中的金属条宽度W是可变的。

6.如权利要求2所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:当基本图形单元为十字形时,首先在金属层M1上选定一个中心点,构造两个相互垂直的长L1、宽W1的金属条,起始点为-L1/2、-W1/2,终点为L1/2、W1/2,确保L1、W1变化时,图形始终位于中心;然后把两个金属条合并为一体,一阶的十字形接地屏蔽基本单元完成,接地部分由十字形的四个顶点部分引出连接到地,利用金属层M2制造一个相同的十字形的一阶悬浮屏蔽结构,但和金属层M1相互绝缘;十字形的基本单元的金属条的长度L1取值范围为40μm~120μm,宽度W1取值范围为0.12μm~4μm。

7.如权利要求6所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:构造二阶图案接地屏蔽层是在一阶图案接地屏蔽层的基础上,在L/4处叠加四个长度为L/2减去一个间距a,宽度为W/2的垂直金属条(14a);构造三阶图案接地屏蔽层是在二阶图案接地屏蔽层的基础上,在L/8处和3*L/8处叠加八个长度为L/4减去3/2倍的间距a,宽度为W/4的垂直金属条13a,在13a上L/8处叠加八个长度为L/4减去3/2倍的间距a,宽度为W/4的垂直金属条(14b)。

8.如权利要求7所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:叠加的金属条宽度W1是可不变的。

9.如权利要求3或权利要求6所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:金属层M1的屏蔽结构和M2的屏蔽结构是可以彼此错开的。

10.如权利要求2所述的新型的分形图案接地屏蔽结构,其特征在于:可把H形和十字形相结合,一层为H形屏蔽结构,一层为十字形屏蔽结构,彼此是绝缘的,下层的屏蔽结构作为接地层,同时上下层的屏蔽结构是可以错开的。

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