[发明专利]处理基板的设备和方法有效
申请号: | 201210227992.2 | 申请日: | 2012-07-02 |
公开(公告)号: | CN102856234A | 公开(公告)日: | 2013-01-02 |
发明(设计)人: | 郑恩先;金禹永;许瓒宁;朴正善 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/02;B08B3/08 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 韩国忠淸南道天*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 设备 方法 | ||
1.一种处理基板的设备,所述设备包括:
处理室,在所述处理室中使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥所述基板;和
再生单元,在所述再生单元中所述有机溶剂与从所述处理室排出的流体分离以再生所述流体。
2.根据权利要求1所述的设备,其中所述再生单元包括分离模块,所述分离模块用于冷却所述溶解有所述有机溶剂的流体以将所述有机溶剂从所述流体中分离。
3.根据权利要求2所述的设备,其中所述分离模块被提供多个,并且所述多个分离模块彼此串联连接。
4.根据权利要求2所述的设备,其中所述分离模块包括:分离罐,从所述处理室排出的所述流体被引入到所述分离罐中;
冷却构件,所述冷却构件用于冷却所述分离罐;
放出管,所述放出管设置在所述分离罐的下部中以排出液化的并且与所述流体分离的所述有机溶剂;和
第一排气管,所述第一排气管设置在所述分离罐的上部以排出与所述有机溶剂分离的所述流体。
5.根据权利要求4所述的设备,其中所述分离模块进一步包括流入管,用于将从所述处理室排出的所述流体供应到所述分离罐的下部中。
6.根据权利要求4所述的设备,其中所述分离模块进一步包括反向压力调整器,所述反向压力调整器设置在所述第一排气管中以不断地保持所述分离罐的内部压力。
7.根据权利要求2至6中任一项所述的设备,其中所述再生单元进一步包括柱模块,所述柱模块用于将用于吸收所述有机模块的吸收材料提供到从所述分离模块排出的所述流体中,以将所述有机溶剂从所述流体中分离。
8.根据权利要求7所述的设备,其中所述柱模块被提供多个,并且
所述多个柱模块彼此串联连接。
9.根据权利要求7所述的设备,其中所述柱模块被提供多个,并且所述多个柱模块彼此并联连接。
10.根据权利要求7所述的设备,其中所述柱模块包括:
吸收柱,用于将所述吸收材料提供到从所述分离模块排出的所述流体中;
温度保持构件,用于不断地保持所述吸收柱的内部温度;和
第二排气管,用于排出通过所述吸收材料将所述有机溶剂分离的流体。
11.根据权利要求10所述的设备,其中所述柱模块进一步包括浓度传感器,所述浓度传感器设置在所述第二排气管中以检测从所述第二排气管排出的所述流体中包含的所述有机溶剂的浓度。
12.根据权利要求7所述的设备,其中所述吸收材料包括沸石。
13.根据权利要求1所述的设备,其中所述再生单元包括柱模块,所述柱模块将用于吸收有机模块的吸收材料提供到从所述处理室排出的流体中,以将所述有机溶剂从所述流体中分离。
14.一种处理基板的方法,所述方法包括:
使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥所述基板;和
将所述有机溶剂从所述流体分离以再生所述流体。
15.根据权利要求14所述的方法,其中所述流体的再生包括:冷却溶解有所述有机溶剂的流体以将所述有机溶剂从所述流体中分离。
16.根据权利要求15所述的方法,其中所述流体的再生进一步包括:将用于吸收所述有机溶剂的吸收材料提供到所述流体内以将所述有机溶剂从所述流体中分离。
17.一种处理基板的设备,所述设备包括:
处理室,在所述处理室中使用被提供为超临界流体的流体溶解余留在基板上的有机溶剂以干燥所述基板;
存储罐,所述流体以液态储存在所述存储罐中;
水供应罐,所述水供应罐从所述存储罐接收所述流体以产生所述超临界流体并且将所述超临界流体提供到所述处理室中;和
再生单元,在所述再生单元中所述有机溶剂被从所述处理室排出的所述流体中分离以再生所述流体并且将所述再生的流体供应到所述存储罐中。
18.根据权利要求17所述的设备,其中所述再生单元包括分离模块,所述分离模块用于冷却溶解有所述有机溶剂的流体以将所述有机溶剂从所述流体中分离。
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