[发明专利]影像检测器阵列的形成方法有效
申请号: | 201210231706.X | 申请日: | 2006-06-28 |
公开(公告)号: | CN102931204A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 林志旻 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 阚梓瑄;冯志云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 影像 检测器 阵列 形成 方法 | ||
1.一种影像检测器阵列的形成方法,包括:
提供基板,其具有第一影像检测器、第二影像检测器及第三影像检测器;
形成第一滤光片、第二滤光片及第三滤光片,所述第一滤光片、第二滤光片及第三滤光片各自靠近该第一、第二及第三影像检测器;
同时形成第一微透镜、第二微透镜及第三微透镜,所述第一微透镜对准该第一影像检测器与该第一滤光片、第二微透镜对准该第二影像检测器与该第二滤光片及第三微透镜对准该第三影像检测器与该第二滤光片;
其中该第一微透镜的有效面积大于该第二微透镜的有效面积;
其中该第二微透镜的有效面积大于该第三微透镜的有效面积;
其中该第一、第二、第三滤光片分别为蓝色、绿色、红色滤光片;
其中所述微透镜彼此邻接,且该第二微透镜与该第三微透镜之间具有沟槽,且该第一微透镜与该第二微透镜间不具有沟槽;
其中形成所述微透镜的步骤中,同时形成所述微透镜的步骤应用光掩模,且该光掩模具有不同大小的第一、第二、第三区域,分别对应该第一、第二、第三微透镜,该光掩模的第一、第二、第三区域应用不同的光学邻近修正,且光学邻近修正定义该第二微透镜与该第三微透镜之间的沟槽。
2.根据权利要求2所述的影像检测器阵列的形成方法,还包括测定该第一、第二、第三影像检测器的光响应比,并以此决定该光掩模的该第一、第二、第三区域的大小。
3.根据权利要求1所述的影像检测器阵列的形成方法,其中该第一微透镜、该第二微透镜、该第三微透镜的截面积比为12:8:5。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的