[发明专利]影像检测器阵列的形成方法有效
申请号: | 201210231706.X | 申请日: | 2006-06-28 |
公开(公告)号: | CN102931204A | 公开(公告)日: | 2013-02-13 |
发明(设计)人: | 林志旻 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 阚梓瑄;冯志云 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 影像 检测器 阵列 形成 方法 | ||
本发明是申请号为200610100024.X,申请日为2006年6月28日,发明名称为影像检测器阵列及其形成方法的分案申请。
技术领域
本发明涉及影像检测器阵列,特别涉及改进的微透镜阵列。
背景技术
影像检测器阵列已广泛应用于多种领域,如电荷耦合元件(charged coupling device,以下简称CCD)的影像检测器及互补式金属氧化物半导体(complementary metal oxide semiconductor,以下简称CMOS)的影像检测器。不论是哪种形式的影像检测器阵列,均是将光学图案(如影像)转换成电子图案。一般的影像检测器阵列具有高分子或介电材料形成的微透镜,而形状大小一致的微透镜可组成微透镜阵列。
影像检测器阵列可选择接收不同波长(颜色)的光线。举例来说,影像系统如数字相机的像素即应用不同颜色(红蓝绿)的滤像检测元件。值得注意的是,不同颜色的像素因为波长不同而具有不同的光响应比(photo response ratio)。例如某一像素对蓝光的敏感度低于另一像素对绿光的敏感度,而且更低于另一像素对红光的敏感度。因此需要使不同颜色之间的敏感度相同以得到更接近真实色彩的影像。
因此目前需要新的影像检测器阵列以克服上述问题。
发明内容
本发明为解决不同颜色的响应比不同所造成的色差问题,提供了一种影像检测器阵列的形成方法,包括:提供基板,其具有第一及第二影像检测器;形成第一及第二滤光片,各自靠近第一及第二影像检测器;以及形成第一及第二微透镜,各自对准第一影像检测器与第一滤光片,及第二影像检测器与第二滤光片;其中该第一微透镜的有效面积大于该第二微透镜的有效面积。
根据所述的影像检测器阵列的形成方法,还包括:在该基板中形成第三影像检测器;以及靠近该第三影像检测器形成第三滤光片;其中该第二微透镜的有效面积大于该第三微透镜的有效面积。
根据所述的影像检测器阵列的形成方法,其中该第一、第二、第三滤光片分别为蓝色、绿色、红色滤光片。
根据所述的影像检测器阵列的形成方法,其中形成所述微透镜的步骤应用光掩模,且该光掩模具有不同大小的第一、第二、第三区域,分别对应该第一、第二、第三微透镜。
根据所述的影像检测器阵列的形成方法,还包括测定该第一、第二、第三影像检测器的光响应比,并以此决定该光掩模的该第一、第二、第三区域的大小。
根据所述的影像检测器阵列的形成方法,其中形成所述微透镜的步骤中,该光掩模的第一、第二、第三区域应用不同的光学邻近修正。
根据所述的影像检测器阵列的形成方法,其中所述微透镜彼此邻接,且该第二微透镜与该第三微透镜之间具有沟槽。
根据所述的影像检测器阵列的形成方法,其中该第一微透镜与该第二微透镜间不具有沟槽。
本发明还提供一种影像检测器阵列,包括:基板,具有多个影像检测器;以及微透镜层,位于基板上且具有多个微透镜,其各自对应影像检测器,且各自具有凸面对准其对应的影像检测器;其中微透镜至少包含两个具有不同有效区域的第一微透镜及第二微透镜。
根据所述的影像检测器阵列,还包括多个滤光片,所述的多个滤光片位于该微透镜层与所述影像检测器之间,且每一滤光片对准影像检测器及其对应的微透镜。
根据所述的影像检测器阵列,还包括第三微透镜,其有效区域不同于该第一微透镜或第二微透镜的有效区域。
本发明也还提供一种影像检测器阵列,包括:基板,具有至少三种影像检测器,包括第一、第二、第三影像检测器;蓝色滤光片靠近第一影像检测器、绿色滤光片靠近第二影像检测器、红色滤光片靠近第三影像检测器;以及第一微透镜对应第一影像检测器及蓝色滤光片、第二微透镜对应第二影像检测器及绿色滤光片、第三微透镜对应第三影像检测器及红色滤光片;其中第一微透镜的有效区域大于第二微透镜,第二微透镜的有效区域大于第三微透镜。
根据所述的影像检测器阵列,其中该第一微透镜、该第二微透镜、该第三微透镜的截面积比为12:8:5。
因此,本发明的影像检测器阵列使影像不同颜色之间的敏感度相同,从而能得到更接近真实色彩的影像。
附图说明
图1为剖面图,显示本发明中光刻工艺前的影像检测器阵列;
图2为剖面图,显示本发明中光刻工艺后的影像检测器阵列;
图3为俯视图,显示本发明的图1中光刻工艺使用的光掩模;
图4及图5为曲线图,显示多种影像检测器阵列的光响应比。
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