[发明专利]液晶面板的制作方法及装置

权利要求书

1.一种液晶面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

对TFT阵列基板进行清洁处理；

对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试；

根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理。

2.根据权利要求1所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述对TFT阵列基板进行清洁处理的步骤包括：

通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗；

通过超音波并结合清洁剂对水洗后的TFT阵列基板进行清洁；

对所述TFT阵列基板进行紫外光照射。

3.根据权利要求1或2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括：

若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线，则修补机对所述TFT阵列基板进行断线修补；

将修补后的TFT阵列基板送入成盒制程。

4.根据权利要求3所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括：若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上不存在断线，则所述TFT阵列基板被送入成盒制程。

5.根据权利要求2所述的液晶面板的制作方法，其特征在于，所述通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗包括由一喷水装置向阵列基板喷水及由毛刷配合所述喷水装置清洁TFT阵列基板。

6.一种液晶面板的制作装置，其特征在于，包括：

清洁机构，用于对TFT阵列基板进行清洁处理；

阵列测试机，用于对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试；

修补机，用于修补TFT阵列基板上的断线。

7.根据权利要求6所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述清洁机构包括：

清洁器，用于对所述阵列基板进行水洗，去除所述阵列基板上的较大微粒；

超音波器，用于结合清洁剂对水洗后的阵列基板进行清洁，去除所述阵列基板上的较小微粒；

紫外光照射机，用于对所述阵列基板进行紫外光照射，去除所述阵列基板上的有机物。

8.根据权利要求6或7所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述修补机具体用于当所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线时，对所述TFT阵列基板进行断线修补。

9.根据权利要求8所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述液晶面板的制作装置进一步包括一成盒装置，该成盒装置用于在所述TFT阵列基板上形成配向膜，并将一CF基板与其贴合并在TFT阵列基板与CF基板之间注入液晶。

10.根据权利要求7所述的液晶面板的制作装置，其特征在于，所述清洁器包括一用于向阵列基板喷水的喷水装置和配合所述喷水装置清洁阵列基板的毛刷。