[发明专利]液晶面板的制作方法及装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶面板制作技术领域，尤其涉及一种液晶面板的制作方法及装置。

背景技术

TFT（Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管）液晶面板的制造通常包括阵列制程和成盒制程。其中，阵列制程包括形成TFT阵列基板及CF基板；成盒制程中，在TFT阵列基板及CF基板上形成配向膜，并将CF基板和TFT阵列基板贴合并注入液晶。

所述TFT阵列基板一般包括扫描线、数据线、TFT阵列及像素电极。在TFT阵列基板形成后，需要对TFT阵列基板进行检测，以确认TFT基板上的扫描线、数据线是否存在缺陷。经过检测无缺陷的TFT阵列基板，进入成盒制程，在TFT阵列基板涂布配向膜之前，需要对TFT阵列基板进行清洁，以去除TFT阵列基板上的微粒或油污等。

但是，在去除TFT阵列基板上的微粒或油污时，经常会造成TFT阵列基板的扫描线或数据线出现断线的情况。比如，在清洗阵列基板过程中，在刮除阵列基板上的微粒时，容易造成阵列基板断线或微断线，并有可能会让修补机在阵列基板上的镀线，在清洗阵列基板后被剥离，造成阵列基板断线；同样，在对阵列基板进行紫外光照射时，容易使阵列基板的电子能阶升高，致使后续涂布配向膜前产生静电击伤现象。

而在对TFT阵列基板清洁之后至在TFT阵列基板上形成配向膜之前，不会再对TFT阵列基板进行检测，因此，在成盒制程中，若将由于清洁而造成存在断线的TFT阵列基板与CF基板组装，则会由于阵列基板上存在断线，造成液晶面板的配向不良或者出现坏点，进而导致液晶面板报废。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种液晶面板的制作方法及装置，旨在降低液晶面板的报废率。

为了达到上述目的，本发明提出一种液晶面板的制作方法，包括以下步骤：

对TFT阵列基板进行清洁处理；

对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试；

根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理。

优选地，所述对TFT阵列基板进行清洁处理的步骤包括：

通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗；

通过超音波并结合清洁剂对水洗后的TFT阵列基板进行清洁；

对所述TFT阵列基板进行紫外光照射。

优选地，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括：

若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线，则修补机对所述TFT阵列基板进行断线修补；

将修补后的TFT阵列基板送入成盒制程。

优选地，所述根据阵列测试处理结果，对所述TFT阵列基板进行相应处理的步骤包括：若所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上不存在断线，则所述TFT阵列基板被送入成盒制程。

优选地，所述通过清洁器对所述TFT阵列基板进行水洗包括由一喷水装置向阵列基板喷水及由毛刷配合所述喷水装置清洁TFT阵列基板。

本发明还提出一种液晶面板的制作装置，包括：

清洁机构，用于对TFT阵列基板进行清洁处理；

阵列测试机，用于对清洁处理后的TFT阵列基板进行阵列测试；

修补机，用于修补TFT阵列基板上的断线。

优选地，所述清洁机构包括：

清洁器，用于对所述阵列基板进行水洗，去除所述阵列基板上的较大微粒；

超音波器，用于结合清洁剂对水洗后的阵列基板进行清洁，去除所述阵列基板上的较小微粒；

紫外光照射机，用于对所述阵列基板进行紫外光照射，去除所述阵列基板上的有机物。

优选地，所述修补机具体用于当所述阵列测试处理结果为所述TFT阵列基板上存在断线时，对所述TFT阵列基板进行断线修补。

优选地，所述液晶面板的制作装置进一步包括一成盒装置，该成盒装置用于在所述TFT阵列基板上形成配向膜，并将一CF基板与其贴合并在TFT阵列基板与CF基板之间注入液晶。

优选地，所述清洁器包括一用于向阵列基板喷水的喷水装置和配合所述喷水装置清洁阵列基板的毛刷。

本发明提出的一种液晶面板的制作方法及装置，通过对完成阵列制程后的阵列基板进行清洁处理之后，再进行阵列检测与断线修补，可避免清洁机构在清洁处理中造成断线的TFT阵列基板进入成盒装置，降低了液晶面板的报废率。同时，由于TFT阵列基板先经过清洁机构清洁处理清除TFT阵列基板上的微粒后再由阵列检测机对TFT阵列基板进行检测，避免了TFT阵列基板上的微粒对阵列测试机的损伤。