[发明专利]处理系统

权利要求书

1.一种处理系统，包括：

第一粒子束柱(3)，其具有用于沿着第一粒子束的束通道将所述第一粒子束聚焦到相互作用区域(11)上的聚焦透镜(33)；

用于将物体(13)布置在所述相互作用区域(11)内的物体保持器(51)，其中所述物体保持器(51)构造成相对于所述第一粒子束柱(3)绕着所述物体保持器(51)的倾斜轴(53)倾斜所述物体(13)，其中所述倾斜轴(53)横向于所述第一粒子束的束通道定向；以及

气体供应装置(15)，其包括环形管道(63)和气体供应线路(65)；

其中所述气体供应线路(65)包含一端(66)和远端(75)，并且在所述气体供应线路(65)的远端(75)，所述气体供应线路(65)开口于所述环形管道(63)内，用于从气体储存器(74)供应气体(71)至所述环形管道(63)；

其中所述环形管道(63)在所述聚焦透镜(33)和所述相互作用区域(11)之间环形地围绕所述第一粒子束的束通道延伸；

其中所述环形管道(63)在面对所述相互作用区域(11)的侧部上包括朝向相互作用区域的多个用于气体的出口(73)；并且

其中所述环形管道(63)包括保持器(81)，其构造成绕着所述环形管道(63)的枢轴(83)枢转所述环形管道(63)，其中所述枢轴(83)平行于所述物体保持器(51)的倾斜轴(53)。

2.如权利要求1所述的处理系统，其中所述气体供应线路(65)包括沿着所述枢轴(83)线性延伸的部分。

3.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述环形管道(63)由所述气体供应线路(65)支撑。

4.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述出口(73)沿着所述环形管道(63)的周向均匀地分布。

5.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述环形管道(63)的内径(d)，在横向于所述环形管道(63)的枢轴(83)的方向测量，大于0.1mm。

6.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述环形管道的内径(d)，在横向于所述环形管道(63)的枢轴(83)的方向测量，大于0.5mm。

7.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述环形管道的内径(d)，在横向于所述环形管道(63)的枢轴(83)的方向测量，小于10.0mm。

8.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述环形管道的内径(d)，在横向于所述环形管道(63)的枢轴(83)的方向测量，小于5.0mm。

9.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述物体保持器(51)的倾斜轴(53)与所述环形管道的当所述环形管道(63)平行于所述物体定向时远离所述物体保持器(51)的一侧之间的距离(a)大于0.5mm。

10.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述物体保持器(51)的倾斜轴(53)与所述环形管道的当所述环形管道(63)平行于所述物体定向时远离所述物体保持器(51)的一侧之间的距离(a)大于1.0mm。

11.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述物体保持器(51)的倾斜轴(53)与所述环形管道的当所述环形管道(63)平行于所述物体定向时远离所述物体保持器(51)的一侧之间的距离(a)小于4.0mm。

12.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述物体保持器(51)的倾斜轴(53)与所述环形管道的当所述环形管道(63)平行于所述物体定向时远离所述物体保持器(51)的一侧之间的距离(a)小于2.0mm。

13.如权利要求1或2所述的处理系统，其中所述第一粒子束柱配置成将电子束(5)或者离子束引导至所述相互作用区域(11)。

14.如权利要求1或2所述的处理系统，进一步包括第二粒子束柱，其具有用于将第二粒子束沿着所述第二粒子束的束通道引导至所述相互作用区域(11)的聚焦透镜；

其中所述环形管道(63)还环形地围绕所述第二粒子束的所述束通道延伸，并且布置在所述第二粒子束柱的所述聚焦透镜与所述相互作用区域(11)之间。

15.如权利要求14所述的处理系统，其中所述第二粒子束的所述束通道的方向垂直于所述物体保持器(51)的所述倾斜轴(53)定向。