[发明专利]一种光学测试系统有效

专利信息
申请号: 201210249979.7 申请日: 2012-07-18
公开(公告)号: CN102798593A 公开(公告)日: 2012-11-28
发明(设计)人: 潘建伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 测试 系统
【权利要求书】:

1.一种光学测试系统,其特征在于,包括:

机台;

安装于所述机台上的第一导轨,与机台表面平行;

设置于所述第一导轨上,可在所述第一导轨上滑动,能够配合夹持待测模组的第一滑块和第二滑块。

2.根据权利要求1所述的光学测试系统,其特征在于,还包括:

安装于所述机台上的第二导轨,与机台表面平行,且垂直于所述第一导轨;

设置于所述第二导轨上,可在所述第二导轨上滑动,能够与所述第一滑块和第二滑块配合夹持所述待测模组的第三滑块。

3.根据权利要求2所述的光学测试系统,其特征在于,所述第一导轨和第二导轨上设置有用于确定滑块位置的游标卡尺。

4.根据权利要求2所述的光学测试系统,其特征在于,所述第一滑块、第二滑块和第三滑块具有一夹持面,所述第一滑块、第二滑块和第三滑块上均具有一阻挡机构,所述阻挡机构在垂直于所述夹持面的方向上突出于所述夹持面,所述待测模组的上表面贴紧所述阻挡机构下表面时,测量轴位于所述待测模组的表面。

5.根据权利要求2所述的光学测试系统,其特征在于,所述第一滑块、第二滑块和第三滑块的上表面形成有一凹槽结构,在所述第一滑块、第二滑块和第三滑块配合夹持所述待测模组时,所述凹槽结构的底部不高于所述待测模组的上表面。

6.根据权利要求2所述的光学测试系统,其特征在于,还包括:用于承载所述待测模组的承载机构;所述承载机构具有一承载面,所述承载面与机台表面平行,且能够沿垂直于机台表面的方向运动。

7.根据权利要求6所述的光学测试系统,其特征在于,所述承载面通过弹簧与所述承载机构的主体连接。

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