[发明专利]抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法

权利要求书

1.一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：

具有由式(I)表示的结构单元的树脂，

在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和

由式(II)表示的酸生成剂，

其中R¹表示氢原子或甲基；

A¹表示C₁至C₆烷二基；

R²表示具有氟原子的C₁至C₁₀烃基；

其中Q¹和Q²独立地表示氟原子或C₁至C₆全氟烷基；

L¹表示C₁至C₁₇二价饱和烃基，所述饱和烃基中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替；

环W表示C₃至C₃₆脂环烃基，所述脂环烃基中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-、-S-、-CO-或-SO₂-代替，所述脂环烃基中含有的一个或多个氢原子可以用羟基、C₁至C₁₂烷基、C₁至C₁₂烷氧基、C₃至C₁₂脂环烃基或C₆至C₁₀芳香族烃基代替；

R^f1和R^f2在每一次出现时均独立地表示氟原子或C₁至C₆氟化烷基；

n表示1至10的整数；和

Z⁺表示有机阳离子。

2.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的R²是C₁至C₆氟化烷基。

3.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹是C₂至C₄烷二基。

4.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹是1，2-亚乙基。

5.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中环W是由式(IIa1-1)表示的环、由式(IIa1-2)表示的环或由式(IIa1-3)表示的环，

其中所述环中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-、-S-、-CO-或-SO₂-代替，所述环中含有的一个或多个氢原子可以用羟基、C₁至C₁₂烷基、C₁至C₁₂烷氧基、C₃至C₁₂脂环烃基或C₆至C₁₀芳香族烃基代替。

6.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中L¹是*-CO-O-(CH₂)_t-；t表示0至6的整数，*表示与-C(Q¹)(Q²)-的碳原子的连接。

7.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，其中Z⁺是三芳基锍阳离子。

8.根据权利要求1所述的抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物还包含溶剂。

9.一种用于生产抗蚀图案的方法，所述方法包括下列步骤：

(1)将权利要求1所述的抗蚀剂组合物涂敷到基材上；

(2)将涂敷的组合物干燥以形成组合物层；

(3)将所述组合物层曝光；

(4)将曝光的组合物层加热，和

(5)将加热的组合物层显影。