[发明专利]抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2011年7月19日提交的日本申请2011-157523的优先权。该日本申请2011-157523的全部内容通过引用结合于此。

技术领域

本发明涉及抗蚀剂组合物和用于生产抗蚀图案的方法。

背景技术

专利文献JP-2010-197413A中描述了一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含树脂和酸生成剂，所述树脂包含：具有结构单元(u-A)和结构单元(u-B)的聚合物以及具有结构单元(u-B)、结构单元(u-C)和结构单元(u-D)的聚合物。

然而，用常规抗蚀剂组合物，生产抗蚀图案时的聚焦边缘(DOF)可能不总是令人满意，并且从抗蚀剂组合物产生的抗蚀图案的缺陷数目可能相当地增加。

发明概述

本发明提供下列<1>至<9>的发明。

<1>一种抗蚀剂组合物，所述抗蚀剂组合物包含：

具有由式(I)表示的结构单元的树脂，

在碱性水溶液中不可溶或难溶但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液并且不包含由式(I)表示的结构单元的树脂，和

由式(II)表示的酸生成剂，

其中R¹表示氢原子或甲基；

A¹表示C₁至C₆烷二基；

R²表示具有氟原子的C₁至C₁₀烃基；

其中Q¹和Q²独立地表示氟原子或C₁至C₆全氟烷基；

L¹表示C₁至C₁₇二价饱和烃基，所述饱和烃基中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-或-CO-代替；

环W表示C₃至C₃₆脂环烃基，所述脂环烃基中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-、-S-、-CO-或-SO₂-代替，所述脂环烃基中含有的一个或多个氢原子可以被羟基、C₁至C₁₂烷基、C₁至C₁₂烷氧基、C₃至C₁₂脂环烃基或C₆至C₁₀芳香族烃基代替；

R^f1和R^f2在每一次出现时均独立地表示氟原子或C₁至C₆氟化烷基；

n表示1至10的整数；和

Z⁺表示有机阳离子。

<2>根据<1>的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的R²是C₁至C₆氟化烷基。

<3>根据<1>或<2>的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹是C₂至C₄烷二基。

<4>根据<1>至<3>中任一项的抗蚀剂组合物，其中式(I)中的A¹是1，2-亚乙基。

<5>根据<1>至<4>中任一项的抗蚀剂组合物，其中环W是由式(IIa1-1)表示的环、由式(IIa1-2)表示的环或由式(IIa1-3)表示的环，

其中所述环中含有的一个或多个-CH₂-可以被-O-、-S-、-CO-或-SO₂-代替，所述环中含有的一个或多个氢原子可以被羟基、C₁至C₁₂烷基、C₁至C₁₂烷氧基、C₃至C₁₂脂环烃基或C₆至C₁₀芳香族烃基代替。