[发明专利]一种镀膜方法及镀膜器件在审
| 申请号： | 201210270322.9 | 申请日： | 2012-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN102828159A | 公开（公告）日： | 2012-12-19 |
| 发明（设计）人： | 叶鸣强 | 申请（专利权）人： | 中兴通讯股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 518057 广东省深圳市南山*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 方法 器件 | ||
【权利要求书】：
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括：
在已形成用于实现表面效果的效果层的底材上，形成一层用于防止效果层与空气接触的保护层；
在形成的保护层之上，依次生长至少一层印刷层，形成镀膜处理后的底材。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在形成用于实现表面效果的效果层之前，还包括：
在待进行镀膜处理的底材上，形成用于增加膜层附着力的打底层。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述打底层的膜层厚度为3~50nm。
4.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在生长印刷层之后，还包括：
在最后生长的印刷层之上，形成用于隔绝水汽的防水层。
5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述防水层的膜层材质为有机硅塑料，膜层厚度为3~400nm。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述保护层的膜层材质为氧化物，膜层厚度为0.3~300nm。
7.一种镀膜器件，其特征在于，采用如权利要求1~6任一所述的方法形成的镀膜器件。
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