[发明专利]一种彩膜显影机无效

专利信息
申请号: 201210286041.2 申请日: 2012-08-13
公开(公告)号: CN102789141A 公开(公告)日: 2012-11-21
发明(设计)人: 胡立巍 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 潘中毅;熊贤卿
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 显影
【说明书】:

技术领域

发明涉及液晶面板制造领域,尤其涉及一种彩膜显影机。

背景技术

液晶面板制造领域中,彩膜显影机主要应用在彩色滤光片R、G、B制程中,其可以对基板面内光阻进行显影。

现有技术中彩膜显影机的结构主要由显影槽9组成,如图3所示,相对于水平面T倾斜一定角度的显影槽9可以将显影基板固定在一定角度进行显影,倾斜的基板利于基板表面显影液的显影和下流,防止因为基板的弯曲造成显影液残留,减少因液体流动不畅造成产品不良情况的发生。

上述结构的彩膜显影机因结构设计不合理,存在如下缺陷:

在基板进行显影时,基板上方的显影喷嘴对基板上的光阻喷洒显影液,显影液会沿着倾斜的基板由上至下的向下流。由于下流的显影液仍旧具有较强的显影能力,在下流的过程中会一直与基板上的光阻发生化学反应,造成整个基板面内显影程度的不均匀,致使基板靠上边缘部分与靠下边缘部分面内RGB制程的显影大小呈现较大差异,一定程度上影响产品的品质。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于,提供一种彩膜显影机,可以减少发生基板在通过显影槽显影时因为显影液由上至下的流动对倾斜基板上光阻造成显影不均的情况;增强了基板显影的均匀性;改善面内制程均匀程度,缩小差异性,提升产品的品质。

为了解决上述技术问题,本发明的实施例提供了一种彩膜显影机,用于在液晶面板制造中对基板面内光阻进行均匀显影,包括显影槽,所述显影槽包括分别相对于水平面设置倾斜的第一显影槽和第二显影槽;所述第一显影槽和所述第二显影槽相对于所述水平面倾斜的倾斜方向相反。

优选的,所述第一显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在0°-90°之间;所述第二显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在90°-180°之间。

优选的,所述第一显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在5°-10°之间;所述第二显影槽相对于所述水平面的倾斜角的角度范围在170°-175°之间。

优选的,所述第一显影槽相对于所述水平面的倾斜角与所述第二显影槽相对于所述水平面的倾斜角互补。

优选的,所述彩膜显影机还包括用于在所述第一显影槽和所述第二显影槽间进行传送的传送机构;所述传送机构可相对于水平面设置旋转倾斜。

优选的,所述第一显影槽和所述第二显影槽上分别安装有所述传送机构。

优选的,所述第一显影槽和/或所述第二显影槽连接设置用于去除所述基板表面残留显影液的清洗装置。

优选的,所述基板通过所述第一显影槽经所述清洗装置后,由所述传动装置传送至所述第二显影槽。

本发明所提供的彩膜显影机,由于设置了相对于水平面倾斜的第一显影槽和第二显影槽,两显影槽相对于水平面倾斜的倾斜方向相反。使得基板通过显影槽显影时相互抵消因为显影液由上至下的流动对倾斜基板上光阻造成的差异性。增强了基板显影的均匀性;改善面内制程均匀程度,缩小差异性,提升产品的品质。 

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例的彩膜显影机的显影槽的截面结构示意图;

图2是本发明实施例的彩膜显影机的结构框图;

图3是现有技术中彩膜显影机的显影槽的截面结构示意图。

具体实施方式

下面参考附图对本发明的优选实施例进行描述。

本发明实施例提供了一种彩膜显影机,用于在液晶面板制造中对基板面内光阻进行均匀显影,其包括用于对基板进行固定的显影槽,所述显影槽包括相对于水平面设置倾斜的第一显影槽11和第二显影槽12;

所述第一显影槽11和所述第二显影槽12分别相对于所述水平面倾斜的倾斜方向相反。

参见图1,该结构的彩膜显影机,通过设置两倾斜方向相反的显影槽,可以使显影基板在显影工序中不至于一直处于一端侧被较强显影的状态。该使面内均匀显影的结构是通过如下方式实施的:

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