[发明专利]质谱系统的现场调节

权利要求书

1.一种用于操作质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的方法，所述方法包括：

将样品和载气引入所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的电离室(136)中；以及

在保持引入所述样品和所述载气的同时，将调节气体流入所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的质谱仪(104)中，其中，所述质谱仪(104)中的所述调节气体基本不改变所述样品的分析物的质谱特征，并且所述调节气体与所述载气不同。

2.如权利要求1所述的方法，其中，所述调节气体包括氢、氩、或者氢和氩两者。

3.如权利要求1或2所述的方法，其中，将所述调节气体流入的步骤包括将所述调节气体与载气一起流入所述质谱仪(104)中，并且还包括调控所述调节气体和所述载气的各自流量以使流入所述质谱仪(104)的所述调节气体的比例在从0.02％到50％的范围内。

4.如权利要求1所述的方法，包括：评价所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的参数，并基于所述参数来调控所述调节气体的流量。

5.如权利要求4所述的方法，其中，所述参数选自由以下各项组成的组：

在评价该参数之前，所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的部件已被操作来进行样品分析的次数；

在评价该参数之前，已经过去的时间量；

在预定操作条件下由所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)产生的色谱图的品质；

在预定操作条件下由所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)产生的色谱图的信噪比；

在操作所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)来分析样品时进行的具有一个或多个选定的质荷比的离子的丰度的测量；

从所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的柱(246)中的固定相支撑物分离出的固定相材料的存在情况；

要流动通过柱(246)的样品基质的组成；

被支撑在所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的柱(246)中的固定相的组成；

柱(246)的内径；

样品基质的一个或多个组分与所述调节气体的反应性；

前述各项参数中两者或更多者的组合。

6.如权利要求1所述的方法，其中，引入所述样品的步骤包括将所述样品与载气一起流入所述质谱仪(104)中，并且还包括操作所述质谱仪(104)以测量调节气体离子的丰度与载气离子的丰度的比，并基于所测量的比来调控进入所述质谱仪(104)中的所述调节气体的流量相对于进入所述电离室(136)中的所述载气的流量。

7.如权利要求1所述的方法，其中，流入所述调节气体的步骤包括将所述调节气体流入所述电离室(136)中，并且还包括激发所述电离室(136)中的所述调节气体。

8.如权利要求1所述的方法，其中，所述调节气体包括氢，所述载气不包括氢。

9.一种用于操作质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的方法，所述方法包括：

在不将样品引入所述质谱仪系统(100,700,1100,1500,1900)的质谱仪(104)中的情况下，将调节气体流入所述质谱仪(104)中，其中，所述质谱仪(104)由所述调节气体调节；以及

用载气将样品引入经过调节的所述质谱仪(104)中，并且从所述样品收集分析物数据，其中，所述调节气体与所述载气不同，并且

所述调节气体包括氢、氩、氨、和/或甲烷，

其中，流入所述调节气体的步骤包括将所述调节气体流入所述质谱仪系统的电离室(136)中，并且还包括激发所述电离室(136)中的所述调节气体。