[发明专利]有机电致发光器件及其制备方法

权利要求书

1.一种有机电致发光器件，其特征在于，包括依次层叠的阳极基板、发光层、阴极、保护层、金属阻挡层、有机阻挡层、绝缘层及外层保护层；其中，

所述金属阻挡层的材料为Ag、Al、Au、Cu、Ni及Mg中的至少一种；

所述有机阻挡层的材料为聚四氟乙烯、甲基丙烯酸树脂及环状脂肪族环氧树脂中的至少一种；

所述绝缘层的材料为WO₃、V₂O₅、MoO₃及In₂O₃中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述保护层的材料为CuPc、NPB、Alq3、SiO、MgF₂及ZnS中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述阴极包括两层介质层及设于所述两层介质层之间的金属层，所述金属层的材料为铝、银和金中的至少一种，所述介质层的材料为硫化锌或氧化铟锡。

4.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述外层保护层的材料为SiO。

5.根据权利要求1所述的有机电致发光器件，其特征在于，所述金属阻挡层、有机阻挡层、绝缘层构成阻挡层，所述阻挡层的层数为三层。

6.一种有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在阳极基板上形成发光层；

在所述发光层上形成阴极；

在所述阴极上形成保护层；

采用真空蒸发的方法在所述保护层上形成金属阻挡层，其中，所述金属阻挡层的材料为Ag、Al、Au、Cu、Ni及Mg中的至少一种，真空度为8×10^-5Pa~3×10^-5Pa，蒸发速度为厚度为100nm~200nm；

采用先旋涂后曝光的方法在所述金属阻挡层上形成有机阻挡层，在惰性氛围下，先将聚四氟乙烯、甲基丙烯酸树脂及环状脂肪族环氧树脂中的至少一种旋涂在所述碳化物层上，厚度为1μm~1.5μm，然后采用波长为200nm~400nm的紫外光进行固化，光强为10~15mW/cm²，曝光时间200s~300s；

采用真空蒸发的方法在所述有机阻挡层上形成绝缘层，所述绝缘层的材料为WO₃、V₂O₅、MoO₃及In₂O₃中的至少一种，真空度为8×10^-5Pa~3×10^-5Pa，蒸发速度为厚度为50nm~100nm；及

在所述绝缘层上形成外部保护层。

7.根据权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，采用真空蒸发的方法形成所述保护层，其中所述保护层的材料为CuPc、NPB、Alq3、SiO、MgF₂及ZnS中的至少一种，真空度为8×10^-5Pa~3×10^-5Pa，蒸发速度为厚度为200nm~300nm。

8.根据权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，采用真空蒸发的方法形成所述外层保护层，所述外层保护层的材料为SiO，真空度为8×10^-5Pa~3×10^-5Pa，蒸发速度为厚度为100nm~150nm。

9.根据权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，采用蒸镀法形成所述阴极，所述阴极包括两层介质层及设于所述两层介质层之间的金属层，所述金属层的材料为铝、银和金中的至少一种，所述介质层的材料为硫化锌或氧化铟锡。

10.根据权利要求6所述的有机电致发光器件的制备方法，其特征在于，所述金属阻挡层、有机阻挡层、绝缘层构成阻挡层，所述阻挡层的层数为三层。