[发明专利]光学邻近修正方法

权利要求书

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：

提供测试掩模板，所述测试掩模板上形成有至少一个第一测试图形；

以所述测试掩模板进行曝光，形成与所述第一测试图形相对应的曝光图形；

基于所述曝光图形对第一测试图形进行调整以形成第二测试图形，使所述第二测试图形相对于第一测试图形与曝光图形更相近；

基于所述第二测试图形与所述曝光图形进行修正。

2.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一测试图形为二维图形。

3.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一测试图形包括直角，所述基于曝光图形对第一测试图形进行调整形成第二测试图形的步骤包括：将所述第一测试图形中的直角调整为圆角。

4.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述第一测试图形包括直角，所述基于曝光图形对第一测试图形进行调整形成第二测试图形的步骤包括：将所述第一测试图形中的直角对应的直角三角形区域去除。

5.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述基于所述第二测试图形与所述曝光图形进行修正的步骤包括：

测量曝光图形不同测试位置处的线宽；

依次比较不同测试位置处测量的线宽与对应位置处第二测试图形对应宽度，获得曝光图形与所述第二测试图形的相似度；

如果相似度大于或等于相似度阈值，则第二测试图形符合设计规格，如果相似度小于相似度阈值，对第二测试图形进行修正。

6.如权利要求5所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述相似度阈值位于70%~95%的范围内。

7.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述基于所述第二测试图形与所述曝光图形进行修正的步骤包括：

提取曝光图形的图形轮廓，对图形轮廓进行多点采样；

依次判断每一采样点与所述第二测试图形对应点相比是否通过校验；

在对所有采样点完成校验之后，判断符合校验的采样点的数量与预设阈值的大小，如果符合校验的采样点的数量大于或等于预设阈值，则第二测试图形符合设计规格，如果符合校验的采样点的数量小于预设阈值，对第二测试图形进行修正。

8.如权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述提取曝光图形的图形轮廓的步骤包括：通过电子显微镜对曝光图形进行扫描，形成曝光图形形貌图，基于图形轮廓与曝光图形形貌图中其他位置的灰度的不同，对所述曝光图形形貌图进行图形轮廓的提取。

9.如权利要求7所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述预设阈值根据采样点的数量和校验合格率阈值的乘积获得。

10.如权利要求9所述的光学邻近修正方法，其特征在于，所述校验合格率阈值位于70%~95%的范围内。